ÜRÜNLER

HEKZAMETİLDİSİLAZAN (HMDS)

Hekzametildisilazan (HMDS), alkoller, aminler ve karboksilik asitler gibi hidrojene duyarlı substratların trimetilsililasyonu için kararlı ve etkili bir reaktiftir.
Hekzametildisilazan, kimyasal sentez sırasında hassas fonksiyonel grupların korunması için yaygın olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan düşük maliyeti, yüksek buhar basıncı ve güvenliği nedeniyle kimyasal buhar biriktirme (CVD) reaksiyonlarında bir öncü olarak yaygın şekilde kullanılır.

CAS Numarası: 999-97-3
EC Numarası: 213-668-5
Moleküler Formül: C6H19NSi2
Moleküler Ağırlık (g/mol): 161.395

Hekzametildisilazan (HMDS) alkolleri, aminleri, tiyolleri trimetilsililatlamak için kullanılır.
Hekzametildisilazan, hidroksi bileşiklerinden trimetilsilil eterlerin hazırlanması için de kullanılabilir.

Hekzametildisilazan, organik sentez ve organometalik kimyada çözücü olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan genellikle fotolitografide fotorezist için bir yapışma promotörü olarak kullanılır.
Ayrıca, hidroksi bileşiklerinden trimetilsilil eterlerin hazırlanması için Hekzametildisilazan kullanılır.

Hekzametildisilazan, elektron mikroskobunda numune hazırlama sırasında kritik nokta kurutmaya alternatif olarak kullanılır.
Gaz kromatografisi-kütle spektrometrisinde piroliz sırasında silillenmiş teşhis ürünleri elde etmek için analite hekzametildisilazan eklenir.

Bis(trimetilsilil)amin (Hekzametildisilazan ve HMDS olarak da bilinir), [(CH3)3Si]2NH moleküler formülüne sahip bir organosilikon bileşiğidir.
Molekül, iki hidrojen atomu yerine trimetilsilil gruplarına sahip bir amonyak türevidir.

Bir elektron kırınım çalışması, silikon-azot bağ uzunluğunun (173,5 pm) ve Si-N-Si bağ açısının (125,5°) disilazana (burada metil gruplarının yerini hidrojen atomlarının aldığı) benzer olduğunu gösterir.
Bu renksiz sıvı, organik sentez ve organometalik kimyada popüler olan bazların bir reaktifi ve öncüsüdür.
Ek olarak, Hekzametildisilazan, silikon karbonitrid ince filmleri veya kaplamaları biriktirmek için kimyasal buhar biriktirme tekniklerinde moleküler öncü olarak giderek daha fazla kullanılmaktadır.

Hekzametildisilazan, özellikle iyi bir kritik nokta kurutucusu olmayan laboratuvarlar için, bazen kritik nokta kurutma CPD'sinin iyi bir ikamesi olabilir.
Hekzametildisilazan genellikle hızlı infiltrasyonu nedeniyle, Hekzametildisilazan böcek dokusunun hazırlanması için idealdir.
Ancak, genel olarak sonuçların iyi bir kritik nokta kurutucu kullanımıyla elde edileceği gibi olmasını beklemeyin.

Unutmayın, Hekzametildisilazanın yalnızca iyi işleyen bir CPD birimi mevcut olmadığında kullanılmasını "öneriyoruz".
Yakın zamana kadar, Hekzametildisilazanın ana uygulaması yaşam bilimi mikroskobundaydı, ancak son yıllarda malzeme biliminde ilginç uygulamalar bulundu.

HDMS olarak da bilinen Hekzametildisilazan, amonyaktan türetilen bir organosilikon bileşiği ve molekülüdür.
Hekzametildisilazan, organometalik kimya ve organik sentezde popüler olan renksiz bir sıvıdır.

Hekzametildisilazan bir sıvı olarak görünür. Yutulması halinde toksik olabilir.
Hekzametildisilazan cildi ve gözleri tahriş eder.

Hekzametildisilazan, bozunana kadar ısıtıldığında oldukça zehirli nitrojen oksit dumanları yayabilir.
Hekzametildisilazan, elektronik endüstrisinde kromatografi destek malzemelerini devre dışı bırakmak ve fotorezistlerin yapışmasını desteklemek için kullanılır.

Hekzametildisilazan, örneğin hassas böcek dokularının SEM incelemesi için yumuşak dokunun hazırlanmasında kritik nokta kurutma yerine kullanılabilir.
Hekzametildisilazan daha hızlıdır, yüzey detayını korur, termal ve basınç gerilimlerini azaltır ve ayrıca CPD'ye kıyasla hücresel bileşenlerin ekstraksiyonunu azaltabilir.
Hekzametildisilazan, polikarbonat filtrelerdeki bakteri gibi numuneleri kurutmak için kullanılabilir.

Hekzametildisilazan, oldukça faydalı bir silanize edici madde olan toplu bir organo silikon bileşiğidir.
Hekzametildisilazan, trimetilsilil türevlerinin hazırlanması için bir reaktiftir.

Hekzametildisilazan, taramalı elektron mikroskobu (SEM) için biyomateryallerin hücrelerini kurutmak için de kullanılabilir.
Ayrıca Hekzametildisilazan, fotolitografide fotodirenç için bir yapışma promotörüdür ve polar fonksiyonel gruplara sahip bileşiklerin tespit edilebilirliğini arttırmak için piroliz-gaz kromatografisi-kütle spektrometrisinde de yararlıdır.

Hekzametildisilazan, iki hidrojen atomu yerine trimetilsilil gruplarıyla amonyak türevidir.
Hekzametildisilazan, öncelikle organik sentez ve organometalik kimyada yaygın olan birçok bazın öncüsü olarak kullanılır.
Hekzametildisilazanın ayrıca fotolitografi, elektron mikroskobu ve piroliz-gaz kromatografisi-kütle spektrometrisi uygulamaları vardır.

Hekzametildisilazan, amonyaktan iki hidrojenin trimetilsilil gruplarıyla değiştirilmesiyle elde edilen bir N-silil bileşiğidir.
Hekzametildisilazan, gaz kromatografisi kütle spektrometrisi uygulamalarında kullanılan bir türevlendirme maddesidir.

Hekzametildisilazan, kromatografik bir reaktif olarak bir role sahiptir.
Hekzametildisilazan, bir amonyak hidritinden türetilir.

Hekzametildisilazan bir sıvı olarak görünür.
Hekzametildisilazan yutulması halinde toksik olabilir.

Hekzametildisilazan cildi ve gözleri tahriş eder.
Hekzametildisilazan, bozunana kadar ısıtıldığında oldukça zehirli nitrojen oksit dumanları yayabilir.
Hekzametildisilazan diğer kimyasalları yapmak için kullanılır.

Hekzametildisilazanın Kullanım Alanları:
Hekzametildisilazan esas olarak metil silan alkilasyonu (amikasin, penisilin, sefalosporinler ve penisilin türevleri gibi), antibiyotiklerin hidroksil koruyucuları olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan, yarı iletken endüstrisinde diyatomit, beyaz karbon siyahı, titanyum ve fotorezistin sarışın katkı maddelerinin yüzey işleme maddesi olarak kullanılır.

Hekzametildisilazan, yırtılma mukavemeti direncinin tedavi maddesi olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan, organik sentez ve organometalik kimyada çözücü olarak kullanılır.

Hekzametildisilazan, fotolitografide fotorezist için bir yapışma arttırıcı olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan, hidroksi bileşiklerinden trimetilsilil eterlerin hazırlanması için kullanılır.

Hekzametildisilazan, elektronik endüstrisinde kromatografi destek malzemelerini devre dışı bırakmak ve fotorezistlerin yapışmasını desteklemek için kullanılır.
Hekzametildisilazan, elektronik endüstrisinde silikon üzerindeki fotodirençler için bir yapışma arttırıcı olarak kullanılır.

Hekzametildisilazan, siloksan polimerlerinin üretiminde kimyasal bir ara madde olarak kullanılır.

Reaktif olarak kullanın:

Hekzametildisilazan, birçok organik reaksiyonda bir reaktif olarak kullanılır:
Hekzametildisilazan, bir ksantin türevinin mikrodalga sentezi gibi heterosiklik bileşiklerin yoğunlaştırma reaksiyonlarında bir reaktif olarak kullanılır.

Koruyucu gruplar veya aracı organosilikon bileşikleri olarak alkollerin, tiyollerin, aminlerin ve amino asitlerin Hekzametildisilazan aracılı trimetilsililasyonunun çok verimli olduğu ve TMSCl reaktifinin yerini aldığı bulundu.
Geri akan ksilen veya asetonitril içinde glutamik asidin fazla Hekzametildisilazan ve katalitik TMSCl ile silillenmesi, ardından alkol (metanol veya etanol) ile seyreltilmesi, türetilmiş laktam piroglutamik asidi iyi bir verimle verir.

Katalitik iyodin varlığında Hekzametildisilazan mükemmel verimle alkollerin silillenmesini kolaylaştırır.

Hekzametildisilazan, tıpkı Rain-X'in yaptığı gibi laboratuvar cam eşyalarını silillemek ve hidrofobik veya otomobil camı yapmak için kullanılabilir.
Gaz kromatografisinde, uçuculuğu artırmak için organik bileşiklerin OH gruplarını silillemek için Hekzametildisilazan kullanılabilir, bu şekilde normalde uçucu olmayan kimyasalların GC-analizi sağlanır.

Diğer kullanımlar:
Fotolitografide, Hekzametildisilazan genellikle fotorezistler için bir yapışma arttırıcı olarak kullanılır.
En iyi sonuçlar, ısıtılmış yüzeyler üzerine gaz fazından Hekzametildisilazan uygulanarak elde edilir.

Elektron mikroskobunda, numune hazırlama sırasında kritik nokta kurutmaya alternatif olarak Hekzametildisilazan kullanılabilir.
Piroliz-gaz kromatografisi-kütle spektrometrisinde, polar fonksiyonel gruplara sahip bileşiklerin saptanabilirliğini artırmak için piroliz sırasında silillenmiş teşhis ürünleri oluşturmak için analite Hekzametildisilazan eklenir.

Plazma ile güçlendirilmiş kimyasal buhar biriktirmede (PECVD), Hekzametildisilazan kolayca işlenebildiğinden, SiH4, CH4, NH3 gibi oldukça yanıcı ve aşındırıcı gazların yerine moleküler bir öncü olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan, mükemmel mekanik, optik ve elektronik özelliklere sahip SiCN ince filmleri/kaplamaları biriktirmek için argon, helyum ve nitrojen gibi çeşitli gazlardan oluşan bir plazma ile birlikte kullanılır.

Sanayi Kullanımları:
Yapışma/uyum arttırıcı
Yapıştırıcılar ve mastik kimyasalları
Kimyasal reaksiyon regülatörü
Ara ürünler
Polimerizasyon promotörü
Başka türlü tanımlanmamış işleme yardımcıları
İşleme yardımcıları, başka yerde listelenmemiş
Viskozite düzenleyiciler

Tüketici Kullanımları:
Polimerizasyon promotörü

Maruz kalma riski olan Endüstriyel Prosesler:
Yarı İletken Üretimi

Hekzametildisilazan uygulamaları:
Hekzametildisilazan, organik sentez ve organometalik kimyada çözücü olarak kullanılır.
Hekzametildisilazan genellikle fotolitografide fotorezist için bir yapışma promotörü olarak kullanılır.
Ayrıca, hidroksi bileşiklerinden trimetilsilil eterlerin hazırlanması için Hekzametildisilazan kullanılır.

Hekzametildisilazan (HMDS) şu durumlarda kullanılabilir:
Neredeyse nötr reaksiyon koşulları altında alkollerin trimetilsililasyonunda bir sililleme maddesi olarak.
a-amino asit N-karboksianhidritlerin halka açma polimerizasyonu sırasında polipeptitlerin moleküler ağırlıklarını kontrol etmek.

Plazma ile güçlendirilmiş CVD ile silikon karbonitrid ince filmler imal etmek için.
Taramalı elektron mikroskobu için numune hazırlama ve hidroksi bileşiklerinden trimetilsilil eterlerin hazırlanması için.

Cam yüzeylerin silanizasyonu:
Cam mikroskop slaytları, Hekzametildisilazan kullanılarak hidrofobik hale getirilebilir.
Prosedür basit ve oldukça iyi çalışıyor.

Slaytları ayırarak, tercihen PTFE kaplı kapaklı geniş ağızlı bir cam kavanoza yerleştirin.
Birkaç damla Hekzametildisilazan ekleyin, bu daha sonra slaytların yüzeyi ile reaksiyona girerek kapalı kavanozda buharlaşacaktır.
Bu işlem, kavanoz 70°'de on iki saat tutulurken, ancak kapak biraz aralıkken yapılırsa daha iyi sonuçlar elde edilir.

On iki saatin sonunda slaytları çıkarın.
Su damlacıkları artık kayma yüzeylerinde "boncuklanma" yapacaktır.
We ile hidrofobik davranıştan sorumlu olan tabakanın kalınlığı bir nm'den azdır ve ayrıca gözle tamamen görünmez olacaktır.

Yarı iletken teknolojisindeki uygulamalar:
Hekzametildisilazan, özellikle fotorezistin gofret yüzeyine yapışmasını iyileştirme açısından olağanüstü bir yapışma arttırıcıdır.
Hekzametildisilazan, direnç biriktirmeden önce gofret yüzeyinde biriktirilir.

Nanoteknolojideki uygulamalar:
Etkileşmeyen ve temas etmeyen nanoparçacıkların hazırlanması, bu araştırma alanında çalışanların karşılaştığı en büyük zorluklardan biridir.
Çapları 1 ila 50 nm arasında olan kümelenmemiş nanoparçacıkların kontrollü senteziyle ilgilenenler için, öncü olarak Hekzametildisilazandan ve oksitleyici madde olarak oksijenden nano boyutlu SiO2 parçacıkları sentezlenebilir.

Hekzametildisilazanın Özellikleri ve Faydaları:
Yüksek kimyasal kararlılık ve düşük moleküler ağırlık
Toksik olmayan ve uygun maliyetli reaktif

Amonyak, sililleme sırasında üretilen tek yan üründür.
HDMS kullanan sililleme reaksiyonu neredeyse nötrdür ve herhangi bir önlem gerektirmez

Hekzametildisilazanın Özellikleri:

Kimyasal özellikler:
HMDS olarak da bilinen Hekzametildisilazan, renksiz ve şeffaf bir sıvı olan önemli bir organosilikon bileşiğidir.
Hekzametildisilazan kolayca hidrolize edilir ve heksametildisilil eter üretmek için NH3 verir.

Hekzametildisilazan, bir katalizör varlığında alkoller veya fenollerle reaksiyona girerek trimetilalkoksisilan veya trimetilaroksisilan üretir.
Trimetilklorosilan üretmek için susuz hidrojen klorür ile reaksiyona girerek NH3 veya NH4Cl açığa çıkarır.

Fiziki ozellikleri:
Renksiz şeffaf ve kolay akan sıvıdır.
Kaynama noktası 125°C, bağıl yoğunluk 0.76 (20/4°C).
Organik çözücülerde çözünür olan Hekzametildisilazan, hava ile temas ettiğinde hızla hidrolize edilerek trimetilsilanol ve heksametildisilil eter oluşturulur.

Hekzametildisilazanın Sentezi ve Türevleri:
Bis(trimetilsilil)amin, trimetilsilil klorürün amonyakla işlenmesiyle sentezlenir:
2 (CH3)3SiCl + 3 NH3 → [(CH3)3Si]2NH + 2 NH4Cl

Bunun yerine trietilamin ile birlikte amonyum nitrat kullanılabilir.
Bu yöntem, Hekzametildisilazanın 15N izotopik zenginleştirmesi için de kullanışlıdır.

Alkali metal bis(trimetilsilil)amidler, bis(trimetilsilil)amin'in deprotonasyonundan kaynaklanır.
Örneğin, lityum bis(trimetilsilil)amid (LiHMDS), n-bütillityum kullanılarak hazırlanır:
[(CH3)3Si]2NH + BuLi → [(CH3)3Si]2NLi + BuH

LiHMDS ve diğer benzer türevler: sodyum bis(trimetilsilil)amid (NaHMDS) ve potasyum bis(trimetilsilil)amid (KHMDS), sentetik organik kimyada nükleofilik olmayan bazlar olarak kullanılır.

Hekzametildisilazanın Genel Üretim Bilgileri:

Sanayi İşleme Sektörleri:
Yapıştırıcı İmalatı
Diğer Tüm Temel İnorganik Kimyasal Üretim
Diğer Tüm Temel Organik Kimyasal Üretim
Diğer Tüm Kimyasal Ürün ve Müstahzar İmalatları
Bilgisayar ve Elektronik Ürün İmalatı
Elektrikli Ekipman, Alet ve Bileşen İmalatı
Diğer (ek bilgi gerektirir)
Boya ve Kaplama İmalatı
İlaç ve İlaç İmalatı
Plastik Malzeme ve Reçine İmalatı
Basım ve İlgili Destek Faaliyetleri
Kauçuk Ürün İmalatı
Sentetik Kauçuk İmalatı

Hekzametildisilazanın Kararlılığı ve Reaktivitesi:

Reaktivite:
Mevcut bilgilere göre bilinen yok.

Kimyasal stabilite:
Normal koşullar altında kararlı, Neme duyarlı.

Tehlikeli reaksiyon olasılığı

Tehlikeli polimerizasyon:
Tehlikeli polimerizasyon oluşmaz.

Tehlikeli Reaksiyonlar:
Normal işleme altında yok.

Kaçınılması gereken durumlar:
Uyumsuz ürünler.
Aşırı ısı

Açık alevlerden, sıcak yüzeylerden ve tutuşturucu kaynaklardan uzak tutun.
Nemli hava veya suya maruz kalma.

Uyumsuz malzemeler:
Güçlü oksitleyici maddeler.
Su.

Tehlikeli atık:
Karbon monoksit (CO).
Karbon dioksit (CO2).

Hekzametildisilazanın İşlenmesi ve Saklanması:

Yangın Dışı Dökülme Tepkisi:
Yakın çevredeki tüm ateşleme kaynaklarını (sigara içilmez, işaret fişekleri, kıvılcımlar veya alevler) KALDIRIN.
Hekzametildisilazan ile çalışırken kullanılan tüm ekipman topraklanmalıdır.

Dökülen malzemeye dokunmayın veya üzerinde yürümeyin.
Hekzametildisilazanı risk almadan yapabiliyorsanız sızıntıyı durdurun.

Su yollarına, kanalizasyona, bodrum katlarına veya kapalı alanlara girmesini engelleyin.
Buharları azaltmak için buhar bastırıcı bir köpük kullanılabilir.

Toprak, kum veya diğer yanıcı olmayan malzemelerle emdirin.
Hidrazin için, KURU kum veya inert emici (vermikülit veya emici pedler) ile emdirin.
Emilen materyali toplamak için temiz, kıvılcım çıkarmayan aletler kullanın.

BÜYÜK DÖKÜLME:
Daha sonra bertaraf etmek için sıvı dökülmesinin çok önüne set çekin.
Su spreyi buharı azaltabilir, ancak kapalı alanlarda tutuşmayı engelleyemeyebilir.

Hekzametildisilazanın İlk Yardım Önlemleri:
911'i veya acil sağlık servisini arayın.
Tıbbi personelin ilgili malzeme(ler)den haberdar olduğundan ve kendilerini korumak için önlem aldığından emin olun.

Hekzametildisilazan güvenli bir şekilde uygulanabiliyorsa kurbanı temiz havaya çıkarın.
Kurban nefes almıyorsa suni teneffüs yapın.

Kurban Hekzametildisilazan yutmuş veya solumuşsa ağızdan ağza canlandırma uygulamayın; suni teneffüs yapmadan önce yüzünüzü ve ağzınızı yıkayın.
Tek yönlü valf veya diğer uygun tıbbi solunum cihazı ile donatılmış bir cep maskesi kullanın.

Eğer nefes alırken zorlanıyorsanız oksijen alın.
Bulaşmanın olduğu giysi ve ayakkabıları çıkarın ve tecrit edin.

Madde ile temas halinde, derhal cildi veya gözleri en az 20 dakika akan su ile yıkayın.
Yanık durumunda, etkilenen cildi hemen soğuk suyla mümkün olduğu kadar uzun süre soğutun.

Cilde yapışmışsa giysiyi çıkarmayın.
Kurbanı sakin ve sıcak tutun.
Maddeye maruz kalmanın (soluma, yutma veya cilt teması) etkileri gecikebilir.

Hekzametildisilazanın Yangınla Mücadelesi:
Bu malzemelerin bazıları su ile şiddetli reaksiyona girebilir.

KÜÇÜK YANGIN:
Kuru kimyasal, CO2, su spreyi veya alkole dayanıklı köpük.

BÜYÜK YANGIN:
Su spreyi, sis veya alkole dayanıklı köpük.
Hekzametildisilazan güvenli bir şekilde uygulanabiliyorsa, hasarsız kapları ateşin etrafındaki alandan uzaklaştırın.

Yangın kontrolünden gelen akıntıyı daha sonra imha etmek üzere setle çekin.
Kapların içine su sokmayın.

YANGIN İÇEREN TANKLAR VEYA OTOMOBİL/TREY YÜKLERİ:
Yangına maksimum mesafeden müdahale edin veya insansız ana akış cihazları veya izleme nozulları kullanın.
Konteynerleri, yangın sönene kadar bol miktarda suyla soğutun.

Havalandırma güvenlik cihazlarından yükselen ses veya tankın renginin değişmesi durumunda derhal geri çekilin.
DAİMA alev almış tanklardan uzak durun.

Büyük yangınlar için insansız ana akış cihazları veya izleme nozulları kullanın.
Bu mümkün değilse, alandan çekilin ve ateşin yanmasına izin verin.

Hekzametildisilazanın Kaza Sonucu Salınım Önlemleri:

ACİL ÖNLEM Tedbiri:
Döküntü veya sızıntı alanını her yönden en az 50 metre (150 fit) izole edin.

DÖKÜLME:
Acil önlem mesafesini gerektiği gibi rüzgar yönüne doğru artırın.

ATEŞ:
Tank, vagon veya tanker bir yangına karışırsa, her yönden 800 metre (1/2 mil) İZOLE EDİN.
Ayrıca, tüm yönlerde 800 metre (1/2 mil) için ilk tahliyeyi düşünün.

Hekzametildisilazanın Bertaraf Yöntemleri:
En uygun hareket tarzı, mesleki maruz kalma veya çevresel kontaminasyon için doğal eğilimi daha az olan alternatif bir kimyasal ürün kullanmaktır.
Malzemenin kullanılmayan herhangi bir kısmını Hekzametildisilazan onaylı kullanım için geri dönüştürün veya Hekzametildisilazanı üreticiye veya tedarikçiye iade edin.

Kimyasalın nihai bertarafı şunları dikkate almalıdır:
Malzemenin hava kalitesi üzerindeki etkisi; toprakta veya suda potansiyel göç; hayvan, su ve bitki yaşamı üzerindeki etkiler; ve çevre ve halk sağlığı düzenlemelerine uygunluk.

Hekzametildisilazanın Önleyici Tedbirleri:
Kontakt lenslerin endüstride kullanımına ilişkin bilimsel literatür çelişkilidir.
Kontakt lens kullanmanın yararları veya zararları sadece Hekzametildisilazana değil, aynı zamanda Hekzametildisilazanın formu, maruz kalmanın özellikleri ve süresi, diğer göz koruma ekipmanlarının kullanımı ve lenslerin hijyeni gibi faktörlere de bağlıdır.
Bununla birlikte, tahriş edici veya aşındırıcı özellikleri kontakt lenslerin göze zarar vermesine neden olacak şekilde bireysel maddeler olabilir.

Bu özel durumlarda kontakt lensler kullanılmamalıdır.
Her halükarda, kontakt lensler yerindeyken bile olağan göz koruma ekipmanı giyilmelidir.

Hekzametildisilazan tanımlayıcıları:
CAS Numarası: 999-97-3
Kısaltmalar: HMDS
Beilstein Referansı: 635752
ChEBI: CHEBI:85068
ChemSpider: 13238
ECHA Bilgi Kartı: 100.012.425
EC Numarası: 213-668-5
MeSH: Heksametilsilazan

PubChem Müşteri Kimliği:
13838
18913873 amin
45051731 sodyum
45051783 potasyum

RTECS numarası: JM9230000
UNII: H36C68P1BH
BM numarası: 2924, 3286
CompTox Panosu (EPA): DTXSID2025395
InChI: InChI=1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3
Anahtar: FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N kontrolü
InChI=1/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3
Anahtar: FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYAF

SMILES:
C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C
N([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C

Eşanlamlılar: Bis(trimetilsilil)amin, HMDS
Doğrusal Formül: (CH3)3SiNHSi(CH3)3
CAS Numarası: 999-97-3
Moleküler Ağırlık: 161.39
Beilstein: 635752
EC Numarası: 213-668-5
MDL numarası: MFCD00008259
PubChem Madde Kimliği: 24867576

EC Numarası: 213-668-5
EC Adı: 1,1,1,3,3,3-Hekzametildisilazan
CAS Numarası: 999-97-3
Moleküler formül: C6H19NSi2
IUPAC Adı: bis(trimetilsilil)amin

CAS numarası: 999-97-3
EC numarası: 213-668-5
Tepe Formülü: C₆H₁₉N Si₂
Molar Kütle: 133,49 g/mol
GTİP Kodu: 2931 90 00

CAS: 999-97-3
Moleküler Formül: C6H19NSi2
Moleküler Ağırlık (g/mol): 161.395
MDL Numarası: MFCD00008259
InChI Anahtarı: FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N
PubChem Müşteri Kimliği: 13838
ChEBI: CHEBI:85068
IUPAC Adı: [dimetil-(trimetilsililamino)silil]metan
SMILES: C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C

Hekzametildisilazanın Özellikleri:
Kimyasal formül: C6H19NSi2
Molar kütle: 161.395 g·mol-1
Görünüm: Renksiz sıvı
Yoğunluk: 0,77 g cm-3
Erime noktası: -78 °C (-108 °F; 195 K)
Kaynama noktası: 126 °C (259 °F; 399 K)
Suda çözünürlük: Yavaş hidroliz
Kırılma indeksi (nD): 1.4090

Kaynama noktası: 126 °C (1013 mbar)
Yoğunluk: 0,77 g/cm3 (20 °C)
Patlama sınırı: 0,8 - 25,9 %(V)
Parlama noktası: 11,4 °C
Tutuşma sıcaklığı: 325 °C
Erime Noktası: -82 °C
pH değeri: >7,0 (H₂O)
Buhar basıncı: 1900 Pa (20 °C)
Viskozite kinematik: 0,9 mm2/sn (25 °C)

Erime noktası: -78 °C
Kaynama noktası: 125 °C (yanıyor)
Yoğunluk: 25 °C'de 0,774 g/mL(yanıyor)
buhar yoğunluğu: 4,6 (havaya karşı)
buhar basıncı: 20 hPa (20 °C)
kırılma indisi: n20/D 1,407(lit.)
Parlama noktası: 57,2 °F
saklama sıcaklığı: +30°C'nin altında saklayın.
çözünürlük: Aseton, benzen, etil eter, heptan ve perkloroetilen ile karışabilir.
pka: 30(25°C'de)
biçim: Sıvı
renk: Renksiz
Özgül Ağırlık: 0.774
Koku: Amonyak kokusu
PH Aralığı: 8.5
Buharlaşma Oranı: < 1
Viskozite: 0.9mm2/s
patlama sınırı: %0,8-25,9(V)
Suda Çözünürlük: REACTS
Hassas: Neme Duyarlı
Hidrolitik Hassasiyet: 7: nem/su ile yavaş reaksiyona girer
Merck: 14.4689
BRN: 635752
InChIKey: FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N
LogP: 20-25°C'de 0,23-1,19

Sınıf: reaktif sınıfı
Kalite Seviyesi: 300
Tahlil: ≥99%
Form: sıvı
Kırılma indisi: n20/D 1,407 (yanıyor)
bp: 125 °C (yanıyor)
SMILES dizisi: C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C
InChI: 1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3
InChI anahtarı: FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N

Moleküler Ağırlık: 161.39
Hidrojen Bağ Bağışçısı Sayısı: 1
Hidrojen Bağ Alıcı Sayısı: 1
Döndürülebilir Bağ Sayısı: 2
Tam Kütle: 161.10560268
Monoizotopik Kütle: 161.10560268
Topolojik Polar Yüzey Alanı: 12 Å²
Ağır Atom Sayısı: 9
Karmaşıklık: 76.2
İzotop Atom Sayısı: 0
Tanımlı Atom Stereomerkez Sayısı: 0
Tanımsız Atom Stereomerkez Sayısı: 0
Tanımlı Bond Stereomerkez Sayısı: 0
Tanımsız Bond Stereomerkez Sayısı: 0
Kovalent Bağlı Birim Sayısı: 1
Bileşik Kanonikleştirildi: Evet

Hekzametildisilazanın özellikleri:
Tahlil (GC, alan%): ≥ %98
Yoğunluk (d 20 °C/ 4 °C): 0,774 - 0,775
Kimlik (IR): testi geçer

Erime Noktası: -78°C
Yoğunluk: 0.774
Kaynama Noktası: 126°C
Parlama Noktası: 8°C (46°F)
Tahlil Yüzde Aralığı: 98+%
Doğrusal Formül: (CH3)3SiNHSi(CH3)3
Koku: Kokusuz
BM Numarası: UN3286
Beilstein: 635752
Merck Endeksi: 14.4689
Kırılma Endeksi: 1.408
Miktar: 100 mL
Çözünürlük Bilgisi: Metanol, kloroform, etil eter ve benzen ile karışabilir. Su ile karışmaz.
Hassasiyet: Neme duyarlı
Formül Ağırlığı: 161.4
Yüzde Saflık: ≥98%
Fiziksel Form: Sıvı
Kimyasal Ad veya Malzeme: Hekzametildisilazan

Hekzametildisilazan İlgili Ürünler:
Dispers Kırmızı 1 (Teknik Sınıf)
Kırmızı 1-D3 Dağıt
4-(4-Dietilaminostiril)-1-metilpiridinyum iyodür
Dimetiloktadesil[3-(trimetoksisilil)propil]amonyum Klorür (metanol içinde ağırlıkça %40-50)
1,1'-Dietil-4,4'-siyanin İyodür

Hekzametildisilazanın İsimleri:

Tercih edilen IUPAC adı:
1,1,1-Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin

Ticari isimler:
1,1,1,3,3,3-Hekzametildisilazan
A-166
Dow Corning(R) 4-2839 INT (PL sıvısı)
Dow Corning(R) Z-6079 silazan
Dynasylan(R) HMDS
Hekzametildisilazan
SC3100Z
SH4002ZNC911
SH8270U
SH9151U
SH9161U
SL2501A
SL3358A
SL3358B
SL7230A
SL7230B
SL7240A
SL7240B
SL7250ATT903
SL7250ATT905
SL7250BTT903
SL7250BTT905
SL7260A
SL7260ATT903
SL7260ATT907
SL7260B
SL7260BTT903
SL7260BTT907
SL7270A
SL7270ATT903
SL7270B
SL7270BTT903
SL8601ACG791
SL8601ACG792
SL8601BCG791
SL8601BCG792
SL8609A
SL8609ACG792
SL8609B
SL8609BCG792
SL8640A
SL8640B
SL9051A
SL9051B
SL9055A
SL9055B
SL9340A
SL9340B
SL9805ARM102
SM8110Z
SM8120Z

Diğer isimler:
Bis(trimetilsilil)azan
Bis(trimetilsilil)amin
1,1,1,3,3,3-Hekzametildisilazan
hekzametildisilazan

Hekzametildisilazan kelimesinin Eş Anlamlıları:
heksametildisilazan
999-97-3
HMDS
Bis(trimetilsilil)amin
1,1,1,3,3,3-Heksametildisilazan
hekzametilsilazan
Silanamin, 1,1,1-trimetil-N-(trimetilsilil)-
1,1,1-Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin
Tri-Sil
TSL 8802
heksametil disilazan
Disilazan, 1,1,1,3,3,3-heksametil-
[dimetil-(trimetilsililamino)silil]metan
NSC 93895
CCRIS 2456
SZ 6079
HSDB 7226
(TMS)2NH
EINECS 213-668-5
MFCD00008259
((CH3)3Si)2NH
H36C68P1BH
ÇEBİ:85068
1,1,3,3,3-Heksametildisilazan
Bis(trimetilsilil)amidolityum
NSC-93895
Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin
OAP
Lityum hekzametildisilazan
Lityumbis(trimetilsilil)amin
hekzametildisilazan (hmds)
hekzametildisilizan
Lityum tris(trimetilsilil)amin
27495-70-1
CAS-999-97-3
NSC-252161
UNII-H36C68P1BH
AI3-51467
hekzametildisilazan
hekzametyidisilazan
heksa-metildisilazan
heksametil-disilazan
bistrimetilsililamin
hekzametildisililamin
Me3SiNHSiMe3
HMDZ
bis-(trimetilsilil)amin
(Me3Si)2NH
1,1,1,3,3,3-HEKSAMETİL-DISİLAZANE
AT 213-668-5
DİSİLAZANE, HEKZAMETİL
HN(TMS)2
SCHEMBL7649
CHEMBL3183662
DTXSID2025395
HEKSAMETİLDİSİLAZAN [MI]
1,1,3,3,3-heksametilidisilazan
HEKSAMETİLDİSİLAZANE [HSDB]
NSC93895
STR02905
1,1,1,3,3,3-hekzametildisilazan
Tox21_202428
Tox21_303281
1,1,1,3,3,3 hekzametildisilazan
1,1,1,3,3,3-heksametilidisilazan
1,1,1.3,3,3-hekzametildisilazan
NSC252161
STL185550
Disilazan,1,1,3,3,3-hekzametil-
1,1,1,3,3,3-hekzametildisilazan
1,1,1,3,3,3,-heksametildisilazan
AKOS000120987
ÇİNKO169743012
NCGC00164366-01
NCGC00164366-02
NCGC00257230-01
NCGC00259977-01
BP-21394
FT-0602799
H0089
Heksametildisilazan, reaktif derecesi, >=%99
Heksametildisilazan, ReagentPlus(R), %99,9
Silanamin,1,1-trimetil-N-(trimetilsilil)-
WLN: 1-SI-1&1&M-SI-1&1&1
Disilazan,1,1,3,3,3-hekzametil-, lityum tuzu
Q425001
J-519891
F0001-2345
Silanamin,1,1-trimetil-N-(trimetilsilil)-, lityum tuzu
Hekzametildisilazan, GC türevi için, >=%99,0 (GC)
Hekzametildisilazan, yarı iletken sınıf PURANAL™ (Honeywell 17713)
Hekzametildisilazan, Wacker Chemie AG, Burghausen, Almanya tarafından üretilmiştir, >=%97,0 (GC)
heksametildisilazan
1,1,1,3,3,3-Heksametildisilazan
1,1,1-Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin [Almanca] [ACD/IUPAC Adı]
1,1,1-Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin [ACD/IUPAC Adı]
1,1,1-Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin [Fransızca] [ACD/IUPAC Adı]
213-668-5 [EINECS]
999-97-3 [RN]
Bis(trimetilsilil)amin [Wiki]
disilazan, heksametil-
H36C68P1BH
hekzametildisililamin
hmds
JM9230000
MFCD00008259 [MDL numarası]
Silanamin, 1,1,1-trimetil-N-(trimetilsilil)-
Silanamin, 1,1,1-trimetil-N-(trimetilsilil)- [ACD/Dizin Adı]
Silazane HMN
((CH3)3Si)2NH
(TMS)2NH
[dimetil-(trimetilsililamino)silil]metan
1,1,1,3,3,3-Hekzametil-disilazan
136068-19-4 [RN]
Bis(trimetilsilil)amin; HMDS
dimetil-[metil(trimetilsilil)amino]silikon
Disilazan, 1,1,1,3,3,3-heksametil-
DİSİLAZANE, HEKZAMETİL
EINECS 213-668-5
heksametil disilazan
heksametildisilizan
hekzametilsidilizan
hekzametilsilazan
HMDS; Bis(trimetilsilil)amin
NCGC00164366-01
OAP
STR02905
Trimetil-N-(trimetilsilil)silanamin
Tri-Sil
UNII:H36C68P1BH
UNII-H36C68P1BH
WLN: 1-SI-1&1&M-SI-1&1&1