Быстрый Поиска
НОМЕР КАС: 7631-86-9
EC NUJMBER: 231-545-4
МОЛЕКУЛЯРНАЯ ФОРМУЛА: SiO2
МОЛЕКУЛЯРНЫЙ ВЕС: 60,08
Коллоидные кремнеземы представляют собой суспензии мелких аморфных, непористых и обычно сферических частиц кремнезема в жидкой фазе.
Коллоидный диоксид кремния отличается от других типов диоксида кремния по нескольким важным параметрам.
Самая заметная разница в том, что это жидкая форма, а не порошок.
Кроме того, он имеет самую большую площадь поверхности, а размер его агрегатов может быть таким же маленьким, как фактический размер первичной частицы.
Коллоидные дисперсии диоксида кремния представляют собой жидкие дисперсии с низкой вязкостью. Существует множество сортов коллоидного кремнезема, но все они состоят из частиц кремнезема размером от примерно 2 нм до примерно 150 нм.
Коллоидные кремнеземы могут иметь сферическую или слегка неправильную форму и могут присутствовать в виде дискретных частиц или слабо структурированных агрегатов.
Коллоидные кремнеземы также могут присутствовать в узком или широком диапазоне размеров частиц, в зависимости от процесса, в котором они были созданы.
Максимальная массовая доля коллоидного кремнезема в дисперсии ограничена средним размером частиц.
Дисперсии с меньшим средним диаметром имеют большую общую удельную поверхность и ограничиваются дисперсиями с низкой концентрацией.
Напротив, дисперсии с большим средним диаметром имеют меньшую общую удельную поверхность и доступны в более концентрированных дисперсиях.
Внешний вид дисперсии коллоидного диоксида кремния во многом зависит от размера частиц.
Дисперсии с небольшими частицами кремнезема (<10 нм) обычно довольно прозрачны.
Дисперсии среднего размера (10-20 нм) начинают приобретать опалесцирующий вид по мере рассеивания большего количества света.
Дисперсии, содержащие крупные частицы коллоидного кремнезема (> 50 нм), обычно белые.
Стандартные дисперсии коллоидного диоксида кремния устойчивы к гелеобразованию и осаждению в диапазоне pH 8-10,5.
Эти коллоидные кремнеземы стабилизированы щелочью (обычно щелочью натрия, калия или лития) или аммиаком.
В этих условиях частицы заряжены отрицательно.
Дисперсия может быть дестабилизирована из-за добавления избыточных электролитических веществ (натрия, кальция, хлорида, лития, калия).
Эти частицы коллоидного диоксида кремния могут обеспечить дополнительную стабильность анионного заряда, когда алюмосиликатные участки образуются за счет включения алюминия в поверхностный слой частиц диоксида кремния.
Варианты коллоидного кремнезема с низким pH также доступны за счет адсорбции катионного оксида алюминия на поверхности частиц.
В результате образуется катионная частица, которая стабилизируется анионными частицами - обычно это хлорид.
Эти дисперсии стабильны при pH ниже 4.
Уровни с низким pH также можно получить, полностью деионизируя дисперсию.
Эти сорта не требуют присутствия стабилизирующих ионов, а также стабильны при pH ниже 3.
Коллоидные кремнеземы можно модифицировать в несколько конфигураций, включая, но не ограничиваясь этим, корректировку pH, стабилизацию ионов, поверхностный заряд и модификацию поверхности.
Коллоидный кремнезем состоит из молекул кремнезема, взвешенных в жидкости, образуя жидкий золь.
Процесс создания коллоидного кремнезема тщательно контролируется, чтобы гарантировать, что молекулы кремнезема остаются стабильными и разделяются в жидкой среде без коллапса на более мелкие составляющие молекулы или сбора в нестабильные силикагели. Жидкая дисперсионная среда имеет большую плотность, чем вода, и ее необходимо подвергать электростатической обработке для улучшения ионной стабилизации.
Коллоидный кремнезем очень жидкий и имеет низкую вязкость. Использование коллоидного диоксида кремния варьируется в зависимости от размера частиц диоксида кремния в растворе и изменяемого pH, ионизации и поверхностного заряда.
Коллоидный диоксид кремния широко используется в качестве реологической добавки в средствах личной гигиены для контроля текучести.
В самом общем смысле коллоидный диоксид кремния представляет собой дисперсию частиц аморфного диоксида кремния (диоксида кремния) в воде.
Эти частицы аморфного кремнезема получают путем полимеризации зародышей кремнезема из силикатных растворов в щелочных условиях с образованием золей кремнезема нанометрового размера с большой площадью поверхности.
Затем на поверхности наночастиц диоксида кремния индуцируется заряд, который позволяет частицам диоксида кремния отталкиваться друг от друга и образовывать стабильную дисперсию или коллоид.
Коллоидный диоксид кремния - это стабильная суспензия сферических наночастиц диоксида кремния (SiO2) в жидкости, которые гидроксилированы на поверхности.
Коллоидный диоксид кремния встречается практически во всех отраслях промышленности.
Область применения простирается от обработки поверхности в бумажной промышленности до использования в качестве полировального агента в электронной промышленности и использования в качестве добавки для лаков, покрытий и красок для повышения устойчивости к атмосферным воздействиям и истиранию.
Коллоидный диоксид кремния также является распространенной добавкой в косметике и пищевой промышленности.
Средний размер частиц и ширина распределения определяют область применения частиц SiO2.
Типичные размеры варьируются от 1 нм до 100 нм.
Коллоидные кремнеземы обычно представляют собой водные суспензии диаметром от 30 до 500 нм.
Коллоидные кремнеземы обычно стабилизируются электростатически и имеют плотность в диапазоне от 2,1 до 2,3 г / см3.
Применения коллоидных кремнеземов включают наполнители, связующие, абразивы, катализаторы и абсорбенты.
Большинство измерений размеров коллоидного кремнезема выполняется с использованием приборов динамического рассеяния света (DLS), таких как анализатор наночастиц SZ-100.
Коллоидный диоксид кремния используется во многих областях, включая катализ, фармацевтику и покрытия.
Хотя материалы из диоксида кремния естественного происхождения широко доступны, они часто находятся в труднообрабатываемых или даже вредных для здоровья формах.
Поэтому однородные коллоидные диоксиды кремния обычно производятся с использованием синтетических химических процессов.
В то время как устоявшиеся методы высокотемпературного газового синтеза не пользуются популярностью в нашем обществе, заботящемся об энергии, методы жидкостного синтеза являются в настоящее время лидерами в промышленности.
Метод осажденного коллоидного кремнезема обеспечивает основную долю коммерчески производимых специальных кремнеземов, и его экономические преимущества, по прогнозам, будут продолжать расти в будущем.
Продукты из коллоидного диоксида кремния представляют собой стабильные дисперсии неагломерированных, аморфных, нанометровых и сферических частиц диоксида кремния.
Хорошая стабильность, регулируемый гранулометрический состав и механические свойства сделали коллоидный диоксид кремния предпочтительным абразивом для многих приложений CMP.
В последнее время исследовательские и аналитические усилия были сосредоточены на разработке коллоидных продуктов с настраиваемыми физическими и химическими свойствами, чтобы открыть новые возможности в промышленном сегменте CMP.
Коллоидный диоксид кремния - это суспензия, которая используется для окончательной полировки в ряде отраслей промышленности.
В отличие от стандартных абразивных суспензий, коллоидный диоксид кремния относится к категории C.M.P, или химико-механической полировке.
Коллоидный диоксид кремния широко используется в производстве сапфиров и кремниевых пластин, при подготовке проб в металлургии и полировке медицинских имплантатов.
В процессе C.M.P используется комбинация мелких частиц коллоидного диоксида кремния и химическая реакция, основанная на pH и окислительной способности коллоидной основы, для получения отделки поверхности, которая обычно недостижима с использованием мелкодисперсных абразивных суспензий.
Обычно менее 2 нм.
В отличие от обычных абразивных процессов, когда абразив разрезает или снимает материал с подложки, процесс CMP окисляет микрослой подложки, а затем этот слой счищается с помощью тонких, но высококонцентрированных частиц кремнезема.
В обычной абразивной суспензии можно ожидать концентрацию абразивных частиц 15-20 мас.%, Но в коллоидной суспензии может присутствовать до 50 мас.% Частиц диоксида кремния.
Это значительно увеличивает количество частиц кремнезема (SiO2), которые работают на подложке, делая полировку очень равномерной и эффективной.
Кроме того, частицы SiO2 имеют невероятно однородную сферическую форму, что, опять же, трудно сопоставить со стандартными абразивными частицами, форма которых гораздо менее однородна.
Коллоидный кремнезем - широко используемый в промышленности материал.
Коллоидный диоксид кремния - это загуститель эпоксидной смолы, используемый для регулирования вязкости эпоксидной смолы.
Коллоидный диоксид кремния предотвращает стекание эпоксидной смолы в вертикальных и потолочных швах. Это очень сильный наполнитель.
Коллоидный диоксид кремния образует однородную смесь, идеально подходящую для общего эпоксидного склеивания и филетирования.
Коллоидный диоксид кремния также является нашим самым универсальным эпоксидным наполнителем.
Часто используемый в сочетании с другими наполнителями, 406 может использоваться для улучшения прочности, устойчивости к истиранию и консистенции эпоксидных составов для обтекания.
В результате получается более прочная и гладкая поверхность.
Коллоидный диоксид кремния - самое популярное связующее, используемое сегодня в прецизионном литье по выплавляемым моделям.
Коллоидный диоксид кремния предлагает литейщикам безопасный, экономичный и простой в использовании компонент суспензии, который хорошо работает как в качестве основного, так и в качестве резервного раствора.
Системы коллоидного кремнезема очень стабильны; способность образовывать керамическую суспензию с длительным сроком службы из большого количества огнеупорных материалов благодаря химической инертности связующего.
Эта универсальность позволяет коллоидному кремнезему составлять основу керамических корпусов, используемых для литья большого количества металлических сплавов.
Керамические оболочки, образованные связующим из коллоидного диоксида кремния, предлагают несколько преимуществ для процесса паковки.
Исключительно прочные связи, образованные коллоидом, позволяют керамическим оболочкам иметь превосходную прочность в сыром и обожженном состоянии.
ИСПОЛЬЗОВАНИЕ КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Области применения коллоидного кремнезема широко варьируются.
Коллоидный диоксид кремния можно использовать для усиления или направления движения веществ в различных процессах.
Например, коллоидный диоксид кремния используется в процессе производства бумаги для быстрого вытягивания жидкости из готовой бумаги, тем самым позволяя бумаге быстрее высыхать, сохраняя при этом упрочняющий крахмал.
Точно так же коллоидный диоксид кремния можно использовать для поглощения влаги в промышленных условиях с высоким уровнем влажности.
В зависимости от размера составляющих его частиц коллоидный диоксид кремния может использоваться для улучшения движения материалов или увеличения поверхностного трения.
Коллоидный диоксид кремния также можно использовать в качестве эталонного материала как для размера частиц, так и для дзета-потенциала.
Коллоидный диоксид кремния диоксид кремния - хорошо известный и охарактеризованный коллоидный материал, который был изучен с использованием различных методов анализа размера частиц, включая акустическую спектроскопию, лазерную дифракцию и динамическое рассеяние света.
Коллоидный диоксид кремния обычно используется в сочетании с полиуретановой полировальной подушкой, которая имеет пустоты в структуре подушечки для удерживания коллоидного диоксида кремния.
Коллоидный диоксид кремния наносится с помощью перистальтического насоса и постоянной капельной подачи, аналогичной обычному процессу абразивной притирки.
Коллоидный диоксид кремния важен для поддержания влажности процесса, чтобы материал не растягивался.
Коллоидный диоксид кремния широко используется в фармацевтике, косметике и пищевых продуктах.
Коллоидные кремнеземы, малый размер частиц и большая удельная поверхность обеспечивают желаемые характеристики текучести, которые используются для улучшения текучести сухих порошков в ряде процессов, таких как таблетирование и наполнение капсул.
Коллоидный диоксид кремния также используется для стабилизации эмульсий и в качестве тиксотропного загустителя и суспендирующего агента в гелях и полутвердых препаратах.
С другими ингредиентами с аналогичным показателем преломления могут образовываться прозрачные гели.
Степень увеличения вязкости зависит от полярности жидкости (полярные жидкости обычно требуют большей концентрации коллоидного диоксида кремния, чем неполярные жидкости).
Вязкость практически не зависит от температуры.
Однако изменение pH системы может повлиять на вязкость1.
В аэрозолях, отличных от аэрозолей для ингаляции, коллоидный диоксид кремния используется для стимулирования суспендирования твердых частиц, устранения твердого осаждения и сведения к минимуму засорения распылительных форсунок.
Коллоидный диоксид кремния также используется в качестве разрыхлителя таблеток и в качестве адсорбирующего диспергирующего агента для жидкостей в порошках.
Коллоидный диоксид кремния часто добавляют в составы суппозиториев, содержащие липофильные наполнители, для увеличения вязкости, предотвращения седиментации во время формования и уменьшения скорости высвобождения.
Коллоидный диоксид кремния также используется в качестве адсорбента при изготовлении восковых микросфер; как загуститель для препаратов местного действия; и был использован для облегчения сублимационной сушки нанокапсул и суспензий наносфер.
-В производстве бумаги коллоидный диоксид кремния используется в качестве дренажного средства.
-Коллоидный диоксид кремния увеличивает количество катионного крахмала, который может удерживаться в бумаге.
-Катионный клей добавлен в качестве проклеивающего агента для увеличения прочности бумаги в сухом состоянии.
-Инвестиционное литье - используется в формах
-Абразив - для полировки силиконовых пластин.
-Безуглеродная бумага
-Катализаторы
-Поглотитель влаги
-Коллоидный диоксид кремния увеличивает насыпную и склеенную плотность порошка и гранул, а также
-Коллоидный диоксид кремния также используется в смазке таблеток.
-Стабилизирующие и упрочняющие одеяла из огнеупорного керамического волокна
-Износостойкие покрытия
-Увеличение трения - используется для покрытия вощеных полов, текстильных волокон и железнодорожных путей для улучшения сцепления с дорогой.
-Антизагрязнение - заполняет микропоры, предотвращая попадание грязи и других частиц в ткань
-Поверхностно-активное вещество - используется для флокуляции, коагуляции, диспергирования, стабилизации [необходимо разрешение неоднозначности] и т. Д.
-Жидкий диоксид кремния (коллоидный диоксид кремния) используется в качестве осветлителя вина и сока.
-Абсорбент
-Коллоидный диоксид кремния используется в уплотнителях бетона и полированном бетоне.
-При производстве квантовых точек, малых полупроводников, используемых в различных научных исследованиях.
ПРИМЕНЕНИЕ КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Коллоидальный диоксид кремния можно использовать во многих областях, и он повышает функциональность постоянно растущего числа продуктов.
Приведу несколько примеров, когда наши продукты улучшают характеристики покрытий на водной основе, обеспечивая свойства, препятствующие образованию солей, а также повышенную долговечность и прочность при цементировании.
Выбор правильного коллоидного диоксида кремния может оказаться сложной задачей.
Незначительные различия в морфологии частиц, размере частиц и типах ионов могут иметь решающее значение.
Коллоидный диоксид кремния не всегда был универсальным средством решения проблем, как сегодня.
Фактически, ранние коллоидные кремнеземы не были коммерчески полезными, потому что они были слишком нестабильными и содержали только низкие уровни кремнезема.
Коллоидный кремнезем только после производства коллоидного кремнезема в конце 1940-х годов начал расширяться.
Одно из первых применений коллоидного кремнезема было в противоскользящих покрытиях для полов.
Коллоидный диоксид кремния - очень распространенный этап финальной полировки при металлографическом анализе образцов.
Это связано с тем, что коллоидный диоксид кремния обычно гарантирует безупречный образец.
Эти типы образцов просматриваются при большом увеличении, поэтому при рассмотрении структур материала важно, чтобы повреждения, вызванные процессами подготовки, не путали с самим составом материала.
Для современного программного обеспечения для анализа материалов решающее значение имеет покрытие без царапин.
Царапины или любые другие повреждения на образце могут сбить программное обеспечение с неверными показаниями.
Это особенно важно для программного обеспечения для проверки твердости.
Для некоторых металлографических образцов химический состав коллоидного кремнезема можно использовать для травления поверхности, выявляя границы зерен и другие структуры.
Коллоидный диоксид кремния также используется в качестве процесса окончательной полировки после предварительной полировки субмикронного оксида алюминия для подготовки минеральных образцов, готовых к дифракции обратного рассеяния электронов (EBSD).
Причина его использования такая же, как и для любого другого применения, в том, что он дает идеальную поверхность образца без повреждений.
Анализ EBSD показывает больше, чем стандартная дифракция рентгеновских лучей, и теперь является стандартным инструментом для анализа мелкомасштабной структуры интактного кораллинового скелета.
-Плотность бетона, цемента и других материалов
-Отличное удержание при производстве бумаги
-Улучшенное склеивание клеев на водной основе
-Улучшенные поверхностное трение и противоскользящие свойства
-Флокулянт для фильтрации сточных вод
-Инвестиционная литьевая привязка
-Загрязняющие текстильные покрытия
-Антиблокировка для фильмов
-Поверхностные покрытия, устойчивые к царапинам
-Керамическое волокно связующее и отвердитель
-Стойчивость к истиранию катализатора
-Абразивное полировальное средство
-Повышающая прочность добавка к пластмассам, растворам и бетонам.
-Вяжущие в керамических компаундах для высокотемпературных применений
-Осветление концентрата вина, пива и фруктового сока
-Полировочные средства в производстве пластин и микросхем памяти
-Компонент силикатных красок и штукатурок
-Удерживающие средства при изготовлении бумаги
СВОЙСТВА КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Обычно они суспендированы в водной фазе, которая стабилизируется электростатически.
Коллоидные кремнеземы имеют плотность частиц от 2,1 до 2,3 г / см3.
Большинство коллоидных кремнеземов готовят в виде монодисперсных суспензий с размером частиц в диапазоне приблизительно от 30 до 100 нм в диаметре.
Полидисперсные суспензии также могут быть синтезированы и имеют примерно такие же ограничения по размеру частиц.
Более мелкие частицы трудно стабилизировать, тогда как частицы размером более 150 нанометров подвержены седиментации.
Коллоидные кремнеземы производятся различных сортов, которые варьируются по ряду факторов.
Размер частиц обычно варьируется от 5 до 40 нм, а гранулометрический состав может варьироваться от узкого до широкого в зависимости от производственного процесса.
Стандартный коллоидный диоксид кремния стабилен при pH от 8 до 10,5 и несет анионный поверхностный заряд, который стабилизируется натрием или аммонием.
В некоторых сортах некоторые атомы кремния в частицах диоксида кремния заменены алюминат-ионами, чтобы обеспечить повышенную стабильность в более широком диапазоне pH, обычно 3,5-10,5.
Также может быть произведен коллоидный диоксид кремния, несущий положительный поверхностный заряд, который стабилен в кислом диапазоне pH.
Это достигается путем модификации поверхности частицы алюминием и стабилизации заряда частицы хлорид-анионом.
-Размеры частиц от 3 до 100 нм
-Концентрация кремнезема от 7 до 50%
-Удельная поверхность от 40 до 800 м² / г (согласно Sears)
- Модификации для конкретного применения (например, стабилизированные аммонием, модифицированные алюминатом, катионные и т. Д.)
-Определяемое гранулометрическое распределение (узкое, широкое, мономодальное или бимодальное и т. Д.)
ПРОИЗВОДСТВО КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Коллоидные кремнеземы чаще всего получают в многостадийном процессе, в котором щелочно-силикатный раствор частично нейтрализуется, что приводит к образованию зародышей кремнезема.
Субъединицы коллоидных частиц диоксида кремния обычно находятся в диапазоне от 1 до 5 нм.
Объединены ли эти субъединицы вместе, зависит от условий полимеризации.
Первоначальное подкисление жидкого стекла (силиката натрия) дает Si (OH) 4.
Если pH снижается ниже 7 или добавляется соль, то единицы имеют тенденцию сливаться в цепочки.
Эти продукты часто называют силикагелями.
Если поддерживать pH немного на щелочной стороне от нейтральной, то субъединицы остаются разделенными, и они постепенно растут.
Эти продукты часто называют осажденным кремнеземом или золями кремнезема.
Ионы водорода с поверхности коллоидного кремнезема имеют тенденцию к диссоциации в водном растворе, давая высокий отрицательный заряд.
Известно, что замещение некоторых атомов Si на Al увеличивает отрицательный коллоидный заряд, особенно когда он оценивается при pH ниже нейтральной точки.
Из-за очень маленького размера площадь поверхности коллоидного кремнезема очень велика.
Коллоидный диоксид кремния стабилизируют путем регулирования pH, а затем концентрируют, обычно выпариванием.
Максимально достижимая концентрация зависит от размера частиц.
Например, частицы размером 50 нм могут быть сконцентрированы до более чем 50 мас.% Твердых веществ, в то время как частицы размером 10 нм могут быть сконцентрированы только до приблизительно 30 мас.% Твердых веществ, прежде чем суспензия станет слишком нестабильной.
ПРОИЗВОДСТВО КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Коллоидный диоксид кремния получают пламенным гидролизом хлорсиланов, таких как тетрахлорид кремния, при 18008 ℃ с использованием водородно-кислородного пламени.
Быстрое охлаждение из расплавленного состояния во время производства приводит к тому, что продукт остается аморфным.
ХРАНЕНИЕ КОЛЛОИДНОГО КРЕМНЯ:
Коллоидный диоксид кремния гигроскопичен, но адсорбирует большие количества воды без разжижения.
При использовании в водных системах при pH 0–7,5 коллоидный диоксид кремния эффективен для увеличения вязкости системы.
Однако при pH более 7,5 свойства коллоидного диоксида кремния по увеличению вязкости снижаются; а при pH более 10,7 эта способность полностью теряется, поскольку диоксид кремния растворяется с образованием силикатов.
Порошок коллоидного кремнезема следует хранить в хорошо закрытой таре.
СИНОНИМ:
Кварцевый
Диоксосилан
Кристобалит
Кизельгур
Силикагель
Тридимит
Песок
112945-52-5
Инфузорная земля
Кремниевый ангидрид
КИЗЕЛЬГУР
14808-60-7
Аэросил
Кристаллический кремнезем
Диатомовый кремнезем
Дикалит
Wessalon
Стекло
Людокс
Nyacol
Зорбакс сил
112926-00-8
Кремнезем аморфный
Cab-O-sil
Кристенсенит
Кристобаллит
Оксид кремния (IV)
61790-53-2
Кремнистая земля
Синтетический аморфный кремнезем
Аморфный кремнезем
КВАРЦ (SIO2)
Кремнезем коллоидный
60676-86-0
Халцедон
Диатомит
Агат
Каб-о-сил М-5
коллоидный кремнезем
Кристобалит (SiO2)
Плавленый кремнезем
Кварцевое стекло
НАЗВАНИЕ ИЮПАК:
Аморфный коллоидный диоксид кремния
Аморфный кремнезем
Аморфный кремнезем
Аморфный кремнезем
аморфный кремнезем
Аморфный диоксид кремния
Аморфный гидрат диоксида кремния
Диоксид кремния
Диоксосилан
диоксосилан
диоксослиан
Белая сажа
Порошок аэрогеля JIOS Aerova
Кизельгель
Kieselsäuren, amorphe
N.A.
оксид кремичиты (аморфни)
Осажденный аморфный кремнезем
Кварц
ТОВАРНОЕ НАИМЕНОВАНИЕ:
АБСИЛ -100
АБСИЛ-HC
AC6120 носитель
Acematt [кремнезем, осажденный]
Admafine Silica
АЭРОПЕРЛЬ
Aeroperl [кремнезем, коллоидный, пирогенный]
АЭРОСИЛ [кремнезем, коллоидный, пирогенный]
Airlica
Alusilica
Система ApART ™, система катализатора ApART ™
АРСИЛ
Катализаторы гидрообработки ART
БАРИАС
БАРИФИН
БЕКОСОРБ
