TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD)

Moleküler düzeyde Tetrametildesindiol (TMDD), iki mol metil izobütil ketonun (MIBK) bir mol asetilen gazıyla Favorskii alkinilasyonu yoluyla sentezlenen, (CH3)2CH-CH2-C(CH3)(OH)-C(üçlü bağ)C-C(OH)(CH3)-CH2-CH(CH3)2 yapısal formülüne karşılık gelen kompakt, düşük molekül ağırlıklı (226.36 g/mol), simetrik çift kuyruklu bir asetilenik glikoldür. Hava-su ara yüzeyinde dikey yönlenen, kalıcı köpük oluşturan elastik Gibbs-Marangoni sabun filmleri halinde paketlenen ve yüzey aktif madde monomerlerini yavaş gevşeyen miseller içinde hapseden geleneksel doğrusal baş-kuyruk yapılı noniyonik veya anyonik yüzey aktif maddelerin aksine, C-4 ve C-7'de iki tersiyer hidroksil grubuyla çevrelenen merkezi yüksek elektron yoğunluklu karbon-karbon üçlü bağı, Tetrametildesindiol (TMDD) moleküllerinin hava-sıvı ve katı-sıvı ara yüzeylerinde yatay (düz) yönlenmesine neden olurken dört dallanmış metil/izobütil grubu moleküller arası film kohezyonunu önler!

Bu yatay Gemini yönlenmesi ve suda kararlı misel agregasyonunun tamamen yokluğu sayesinde, çözünmüş Tetrametildesindiol (TMDD) moleküllerinin %100'ü yüksek hızlı merdaneli kaplama, havasız püskürtme, fleksografik/tifdruk baskı veya yüksek frekanslı mürekkep püskürtme damlası atımı sırasında yeni oluşan ara yüzeylere milisaniyeler içinde difüze olmak üzere çözeltide serbest kalır; dinamik yüzey gerilimini ~30–33 mN/m'ye indirirken aynı anda sürüklenen hava kabarcıklarını patlatır ve görünmez mikroköpük iğne deliklerini ortadan kaldırır! En önemlisi, Tetrametildesindiol (TMDD) hiç silikon (polidimetilsiloksan), mineral yağ veya florokarbon içermediğinden katlar arası yeniden kaplanabilirliği, ısıyla yapışabilirliği veya laminasyon bağ dayanımını hiçbir şekilde bozmadan kraterleri, balıkgözlerini, portakal kabuğu görünümünü ve mop/rulo izlerini giderir.

Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün %100 Aktif Katı veya %50–%85 Sıvı / Toz sınıfları için Ataman Kimya ile iş birliği; >= %98.5 asetilenik diol saflığını, düşük rengi, ABD FDA 21 CFR 175.105 / 175.300 / 176.170 dolaylı gıda teması ve ABD EPA 40 CFR 180.910/180.920 agrokimyasal mevzuat uyumunu ve güvenilir küresel tedarik zinciri lojistiğini garanti eder. Tetrametildesindiol (TMDD) için uygun fiziksel formun ve etoksillenmiş eş yüzey aktif madde eşleşmesinin seçilmesi, kaplama, mürekkep, yapıştırıcı ve agrokimyasal kimyagerlerinin yalnızca ağırlıkça %0.05 ila %0.50 dozajlarda kusursuz film yayılması ve sıfır köpüklü işleme elde etmesini sağlar.

CAS Numarası: 126-86-3 (5-Desin-4,7-diol, 2,4,7,9-tetrametil-; 2,4,7,9-Tetrametildes-5-in-4,7-diol; 2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol; Ticari mezo ve rasemik dl diastereoizomer karışımı)
EC Numarası: 204-809-1 (EINECS 204-809-1; AB REACH Kayıtlı maddesi: 2,4,7,9-tetrametildes-5-in-4,7-diol)
Moleküler Formül: C14H26O2 (Yoğunlaştırılmış Simetrik Yapısal Formül: (CH3)2CH-CH2-C(CH3)(OH)-C(üçlü bağ)C-C(OH)(CH3)-CH2-CH(CH3)2; Teorik Elementel Bileşim: ağırlıkça %74.28 C, %11.58 H, %14.14 O)
Molekül Ağırlığı: 226.36 g/mol (Kesin Monoizotopik Kütle: 226.1933 g/mol)
INCI Adı: TETRAMETİL DESİNDİOL (CosIng Referans No. 38462; işlevler: Yüzey Aktif Madde, Islatıcı, Köpük Kesici / Köpük Önleyici, Viskozite Kontrol Maddesi)
E Numarası: Atanmamıştır (Endüstriyel dinamik ıslatıcı ve moleküler köpük kesici; doğrudan gıda katkı maddesi değildir; ancak ABD FDA tarafından 21 CFR 175.105, 21 CFR 175.300, 21 CFR 176.170, 21 CFR 176.180 ve 21 CFR 177.1210 kapsamında dolaylı gıda temaslı kaplamalar, kâğıt/karton ve ambalaj yapıştırıcıları için ve ABD EPA tarafından 40 CFR 180.910 / 180.920 kapsamında tarımsal pestisit formülasyonları için izin verilmiştir)
Erime Noktası: 37.0 ila 46.0 °C (Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün ticari %100 aktif diastereoizomer karışımı için 98.6 ila 114.8 °F Erime / Katılaşma Aralığı; ayrı izole stereoizomerler 42–44 °C ve 56–64 °C'de erir; Propilen Glikolde ağırlıkça %50 sıvı çözelti [TMDD-PG50] için Akma Noktası <= -10.0 °C; Etilen Glikolde [TMDD-E50] Akma Noktası ~ +7.0 °C'dir)
Kaynama Noktası: 101.3 kPa (760 mmHg) atmosfer basıncında 253.0 ila 255.0 °C (487.4 ila 491.0 °F) (20 Torr / 26.7 hPa'da 153.0 ila 157.0 °C; 1 Torr / 1.33 hPa'da 106.0 ila 108.0 °C); Pensky-Martens Kapalı Kap Parlama Noktası: 97.3 ila 118.0 °C (%100 aktif TMDD için 207.1 ila 244.4 °F, ASTM D93 / ISO 2719; Alevlenmez Sınıf IIIB); Kendiliğinden Tutuşma Sıcaklığı: ~335.0 ila 350.0 °C (DIN 51794)
Viskozite: %100 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) için erimiş sıvı halde 50 °C'de 35.0 ila 55.0 mPa·s (cP) dinamik viskozite (25 °C'de ağırlıkça %50 sıvı çözeltiler için: Propilen Glikolde [TMDD-PG50] ~40 ila 65 mPa·s, Etilen Glikolde [TMDD-E50] ~35 ila 45 mPa·s, DPM veya 2-Etilhekzanolde ~22 ila 30 mPa·s)
Yoğunluk: %100 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) için erimiş sıvı halde 30 ila 50 °C'de 0.885 ila 0.895 g/cm3 (tipik olarak 40 °C'de 0.890 g/cm3; 20 °C'de katı kristal yoğunluğu: ~0.915 g/cm3; 25 °C'de Propilen Glikolde ağırlıkça %50 için: 0.955 ila 0.965 g/cm3; 25 °C'de Etilen Glikolde ağırlıkça %50 için: 0.990 ila 1.000 g/cm3; %100 TMDD'nin Buhar Basıncı: 25 °C'de 0.004 hPa [0.003 mmHg]; Kırılma İndisi n20/D: ~1.478 ila 1.480)

En Sık Karşılaşılan Eş Adlar:
Tetrametildesindiol (TMDD)
Tetrametildesindiol (TMDD)
2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol
2,4,7,9-Tetrametildes-5-in-4,7-diol
5-Desin-4,7-diol, 2,4,7,9-tetrametil-
Tetrametil desindiol
Tetrametildesindiol
1,4-Diizobütil-1,4-dimetilbütindiol
1,4-Diizobütil-1,4-dimetil-2-bütin-1,4-diol
TMDD %50 BC (2-Bütoksietanol / Bütil Selosolv içinde %50)
TMDD %50 A (2-Etilhekzanol içinde %50)
TMDD %50 S (Amorf Silika Üzerinde %50 Toz)
Asetilenik Diol
Asetilenik Glikol Yüzey Aktif Maddesi
Surfynol 104
Surfynol 104E / 104PG-50 / 104A / 104BC / 104DPM / 104PA / 104H / 104S
Olfine E1004 / Olfine AK-02
Dynol / EnviroGem Öncül Diolü
Tetrametildesindiol (Türkçe)
2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol (TMDD)

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) NEDİR?

Tetrametildesindiol (TMDD) (IUPAC adı: 2,4,7,9-tetrametildes-5-in-4,7-diol, CAS 126-86-3, EC 204-809-1), C14H26O2 moleküler formülüne ve 226.36 g/mol molekül ağırlığına sahip simetrik, noniyonik tersiyer asetilenik bir glikoldür. Endüstriyel kolloid ve yüzey kimyasında Tetrametildesindiol (TMDD), "Gemini Asetilenik Diol" yüzey aktif madde ailesinin ilk örneği ve ana molekülüdür (tarihsel olarak Surfynol 104 ticari markası altında ticarileştirilmiştir).
Geleneksel yüzey aktif maddeler (doğrusal alkol etoksilatlar, alkilfenol etoksilatlar, sodyum dioktil sülfosüksinat DOSS veya sodyum lauril sülfat gibi), durağan halde statik denge yüzey gerilimini etkili biçimde düşürse de büyük miselleri çok yavaş ayrıştığından ve dikey ara yüzey paketlenmeleri kalıcı köpük kabarcıklarını stabilize ettiğinden yüksek hızlı dinamik koşullarda yetersiz kalırken Tetrametildesindiol (TMDD), tamamen farklı bir fiziksel mekanizmayla çalışır:

 Kompakt, misel oluşturmayan molekülleri yeni hava-sıvı ve substrat-sıvı ara yüzeylerine milisaniyeler içinde difüze olduğundan, dinamik yüzey gerilimini düşüren bir "Dinamik Islatıcıdır" (saniyede 6 ila 10 kabarcık gibi yüksek yüzey oluşum hızlarında bile suda ağırlıkça %0.1'de ~30 ila 33 mN/m'ye kadar).

 Aynı zamanda krater, balıkgözü, bulanıklık veya katlar arası yapışma kaybına neden olabilecek tek bir damla hidrofobik silikon yağı, mineral yağ veya silika parçacığı eklemeden moleküler düzeyde köpük oluşumunu önleyen ve mikroköpük kabarcıklarını kararsızlaştıran bir "Moleküler Köpük Kesici ve Hava Gidericidir" (Ross-Miles köpük yüksekliği = 0.0 mm)

 %100 saf Tetrametildesindiol (TMDD), ortam sıcaklığında mumsu kristal bir katı olduğundan (37 ila 46 °C'de akışkan sıvıya erir), hem %100 aktif katı (170–180 kg variller veya 20 kg kovalar/pul ürün torbaları) hem de suyla karışabilen veya kaplamayla uyumlu çözücülerde (Propilen Glikol, Etilen Glikol, Dipropilen Glikol Metil Eter, 2-Bütoksietanol, İzopropanol veya 2-Etilhekzanol) ağırlıkça %50 ila %85 oranında ön çözündürülmüş ve ayrıca serbest akışlı kuru toz olarak çöktürülmüş amorf silika üzerine ağırlıkça %50 oranında emdirilmiş halde sunulur.

ASETİLENİK DİOL GEMİNİ YÜZEY AKTİF MADDELERİN TARİHSEL GELİŞİMİ

Tersiyer asetilenik diollerin kimyası, Alexei Favorskii'nin 1900 yılında uç alkinlerin ve asetilen gazının susuz potasyum hidroksit (KOH) varlığında ketonlarla tersinir reaksiyona girerek alkinil alkoller ve simetrik alkindioller oluşturduğunu keşfetmesine dayanır. 1940'ların sonlarında ve 1950'lerde Air Reduction Company'deki (Airco, daha sonra Air Products and Chemicals, günümüzde Evonik) kimyagerler, asetilenin metil izobütil ketonla (MIBK) reaksiyonunu ölçek büyüterek 2,4,7,9-tetrametil-5-desin-4,7-diolü—Tetrametildesindiol (TMDD)—Surfynol 104 adı altında ilk endüstriyel Gemini yüzey aktif madde olarak ticarileştirmiştir.

1970'lerden 2020'lere uzanan çevresel VOC düzenlemeleri otomotiv kaplaması, endüstriyel ahşap/metal kaplaması, fleksografik/tifdruk baskı mürekkebi, mürekkep püskürtme ve ambalaj yapıştırıcısı sektörlerini düşük yüzey gerilimli organik çözücülerden (~22–28 mN/m) yüksek yüzey gerilimli suya (20 °C'de 72.8 mN/m) geçmeye zorladıkça, formülatörler geleneksel ıslatıcı yüzey aktif maddelerden kaynaklanan inatçı mikroköpük iğne delikleriyle birlikte ciddi dinamik ıslatma kusurlarıyla (geri çekilme, açılma, kraterler, portakal kabuğu görünümü) karşılaşmıştır. Tetrametildesindiol (TMDD) (etoksillenmiş türevleri CAS 9014-85-1 ile birlikte), su bazlı kaplamaların, mürekkeplerin ve yapıştırıcıların köpük veya yüzey kusurları olmadan çözücü bazlı baskı ve püskürtme hızlarında çalışmasını sağlayan vazgeçilmez katkı haline gelmiştir.

KİMYASAL YAPI, GEMİNİ YATAY YÖNLENMESİ VE MOLEKÜLER KÖPÜK KESME MEKANİZMASI

Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün benzersiz ara yüzey davranışı, C14H26O2 iskeletindeki dört moleküler yapı-özellik ilişkisiyle açıklanır:

 Merkezi Yüksek Elektron Yoğunluklu Asetilenik Diol Çekirdeği (-C(OH)-C(üçlü bağ)C-C(OH)-):
10 karbonlu ana zincirin tam merkezinde (C-5 ve C-6 karbonları arasında), C-4 ve C-7 karbonlarındaki iki tersiyer hidroksil (-OH) grubuyla simetrik biçimde çevrelenen doğrusal bir karbon-karbon üçlü bağı (-C(üçlü bağ)C-, sp hibritleşmiş, bağ uzunluğu 1.20 Angstrom) bulunur. Üçlü bağın silindirik pi-elektron bulutu, iki -OH hidrojen bağı vericisi/alıcısıyla birlikte çalışarak molekülün merkezinde kompakt, rijit bir hidrofilik dipol oluşturan yumuşak hidrojen bağı alıcısı görevi görür (Topolojik Polar Yüzey Alanı = 40.5 Angstrom^2, HLB ~ 4.0).

 Dört Dallanmış Metil ve İzobütil Hidrofobik Kalkanı (C-2, C-4, C-7, C-9 Konumları):
Merkezi asetilenik diol çekirdeğini iki tersiyer metil grubu (C-4 ve C-7'de) ve iki dallanmış izobütil kuyruğu (C-4 ve C-7'de -CH2-CH(CH3)2, C-2 ve C-9'da izopropil dalları oluşturarak) çevreler. Molekül her iki uçta simetrik dağılmış altı uç metil (-CH3) grubu içerdiğinden, Tetrametildesindiol (TMDD) çok düşük hidrokarbon kohezyon enerjisi yoğunluğuna sahiptir.

 Hava-Su Ara Yüzeyinde Yatay ("Düz") Yönlenme ve Hızlı Monomer Difüzyonu:
Sulu sistemde çözündüğünde (25 °C'de suda çözünürlük ~1.1 ila 1.7 g/L), Tetrametildesindiol (TMDD) molekülleri klasik keskin Kritik Misel Derişimine (CMC) sahip büyük, kararlı küresel miseller halinde birleşmez; bunun yerine suda ağırlıklı olarak serbest, birleşmemiş monomerler veya küçük dimerler/trimerler halinde bulunur. Yüksek hızlı baskı, püskürtme veya rulo kaplama sırasında yeni bir hava-sıvı ara yüzeyi oluştuğunda, bu kompakt serbest monomerler ara yüzeye misellere bağlı doğrusal yüzey aktif maddelerden mertebelerce daha hızlı difüze olur (bu maddelerin misellerinin ayrışması 100 ila 1,000 milisaniye gerektirir!). Ara yüzeye ulaştığında merkezi -C(OH)-C(üçlü bağ)C-C(OH)- çekirdeği suya tutunurken iki izobütil kanadı su yüzeyinde düz uzanır; büyük bir moleküler kesit alanı (molekül başına ~65 ila 85 Angstrom^2) kaplar ve hem statik hem dinamik yüzey gerilimini ~29.5 ila 33.0 mN/m'ye düşürür!

 Moleküler Köpük Kesme Mekanizması (Gibbs-Marangoni Film Elastikliğinin Ortadan Kaldırılması):
Geleneksel dikey yüzey aktif maddeler kararlı köpük oluşturur; çünkü paralel C12–C18 zincirleri kabarcık duvarında yanal van der Waals çekimiyle birbirine kenetlenerek yüksek viskoziteli, kendini onaran viskoelastik bir film (Gibbs-Marangoni elastikliği) oluşturur. Yatay yönlenmiş Tetrametildesindiol (TMDD) molekülleri köpük kabarcığı lameline adsorbe olduğunda dikey yüzey aktif madde zincirlerini birbirinden uzaklaştırır. Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün hacimli, şemsiye benzeri izobütil dallarının zincirler arası yanal kohezyonu sıfır olduğundan, kabarcık duvarının yüzey viskozitesi ve Marangoni elastikliği sıfıra düşer: sıvı lamelden hızla boşalır ve kabarcık, makroköpük veya mikroköpük iğne delikleri oluşamadan anında patlar!

ENDÜSTRİYEL ÜRETİM VE İMALAT PROSESLERİ

Ataman Kimya tarafından sunulan ticari yüksek saflıkta Tetrametildesindiol (TMDD), Metil İzobütil Ketonun (MIBK) Asetilen gazıyla katalitik Favorskii alkinilasyonu yoluyla üretilir:
- Aşama 1 (Baz Katalizli Favorskii Etinilasyonu / Alkinilasyonu):
  Kuru, azotla süpürülmüş, patlamaya dayanıklı ceketli basınç reaktöründe, inert aprotik organik çözücü (ksilen, siklohekzan, toluen veya glikol dieter gibi) içindeki susuz Potasyum Hidroksitin (KOH) ince dağılmış süspansiyonu veya kompleksi 5 ila 30 °C'ye soğutulur. Saflaştırılmış Asetilen gazı (HC(üçlü bağ)CH, 1.00 mol), sıkı kontrol edilen düşük basınçta (1.1 ila 1.8 bar mutlak) verilirken 2.00 mol susuz Metil İzobütil Keton (MIBK, 4-metil-2-pentanon, CAS 108-10-1) yoğun soğutmayla 2 ila 4 saat boyunca reaktöre yavaşça ölçülü olarak beslenir:
  2 (CH3)2CH-CH2-C(=O)-CH3 (MIBK) + HC(üçlü bağ)CH + 2 KOH  --->  (CH3)2CH-CH2-C(CH3)(OK)-C(üçlü bağ)C-C(OK)(CH3)-CH2-CH(CH3)2 + 2 H2O
  İlk adımda bir MIBK molekülü asetilene katılarak mono katılma ürünü 3,5-dimetil-1-heksin-3-olü (Surfynol 61 ara maddesi) oluşturur; bu ürün daha sonra ikinci MIBK molekülüyle reaksiyona girerek Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün dipotasyum alkoksit tuzunu oluşturur.
- Aşama 2 (Sulu Hidroliz, Faz Ayırma ve Asitle Nötralizasyon):
  Dipotasyum alkoksit tuzunu üst organik fazda serbest Tetrametildesindiol (TMDD) ve alt alkali fazda sulu KOH'ye hidrolize etmek için 20 ila 40 °C'de su eklenir. Alt KOH alkali tabakası geri kazanım için ayrıldıktan sonra üst organik tabaka %15–%20 sulu fosforik asit veya sülfürik asitle pH 6.5–7.2'ye nötralize edilir, tuz kalmayana kadar deiyonize suyla yıkanır ve fazları ayrılır.
- Aşama 3 (Vakumda Fraksiyonlu Damıtma ve Ticari Formlara Karıştırma):
  Çözücü ve reaksiyona girmemiş MIBK veya C8 mono-inol ön fraksiyonu vakum altında sıyrılır ve saflaştırılmış Tetrametildesindiol (TMDD) ürün fraksiyonu yüksek vakum altında (15–20 mbar / 10–15 Torr'da 150 ila 156 °C) >= %98.5 saflıkta damıtılır (mezo ve dl-rasemik diastereoizomerlerin doğal ~50:50 karışımı olarak). Damıtılmış Tetrametildesindiol (TMDD), hâlâ 55–65 °C'de erimiş haldeyken ya %100 Aktif TMDD olarak katılaşması için varillere/kovalara doldurulur, ya pompalanmaya hazır sıvı sınıflar oluşturmak için Propilen Glikol, Etilen Glikol, DPM, Bütil Glikol veya 2-Etilhekzanole ağırlıkça %50–%85 karıştırılır ya da %50 aktif serbest akışlı toz oluşturmak için yüksek yağ emmeli çöktürülmüş silikaya püskürtülür!

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İÇİN FİZİKSEL VE KİMYASAL ÖZELLİKLER

Ataman Kimya'nın %100 Aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (CAS 126-86-3, EC 204-809-1) ürünü ve %50 Sıvı Çözeltileri için tipik fiziksel sabitler ve analitik spesifikasyon sınırları şunlardır:
- Kimyasal Adı (IUPAC): 2,4,7,9-Tetrametildes-5-in-4,7-diol (2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol)
- CAS Kayıt Numarası: 126-86-3
- EC / EINECS Numarası: 204-809-1
- Moleküler Formül ve Ağırlık: C14H26O2 / 226.36 g/mol
- İyonik Karakter: Noniyonik Gemini Asetilenik Diol Yüzey Aktif Maddesi
- Aktif Madde Tayini (GC, mezo ve dl diastereoizomerlerinin toplamı, %100 Sınıf): Ağırlıkça >= %98.0 (tipik olarak ağırlıkça %98.5 ila %99.3; %50 sıvı/toz sınıflarda ağırlıkça %50.0 +/- 1.0)
- 20–25 °C'de Fiziksel Görünüm:
  - %100 Aktif Sınıf (TMDD %100): Beyaz ila açık sarı mumsu katı / kristal macun (46 °C üzerinde berrak açık sarı sıvı)
  - %50 Sıvı Sınıflar (TMDD-PG50, TMDD-E50, TMDD-DPM50, TMDD-BC50, TMDD-A50): Berrak, renksiz ila açık sarı akışkan sıvılar
  - %50 Toz Sınıf (Silika Üzerinde TMDD-50S): Beyaz, serbest akışlı ince toz
- Koku: Hafif, karakteristik kafurumsu / nane benzeri koku
- Renk (APHA / Pt-Co, 50 °C'de Erimiş %100 Sınıf veya %50 Sıvı Sınıflar, ASTM D1209): <= 100 ila 150 APHA (tipik olarak 30 ila 80 APHA; Gardner Rengi <= 2 ila 3)
- Erime / Katılaşma Aralığı (%100 Aktif Sınıf): 37.0 ila 46.0 °C (48–50 °C'de tamamen sıvılaşır)
- Kaynama Noktası (101.3 kPa / 760 mmHg): 253.0 ila 255.0 °C (20 Torr'da 153–157 °C)
- Özgül Ağırlık / Yoğunluk: 40 °C'de 0.890 g/cm3 (erimiş %100 sınıf; 20 °C'de katı ~0.915 g/cm3; TMDD-PG50 için 25 °C'de 0.960 g/cm3; TMDD-E50 için 25 °C'de 0.995 g/cm3)
- Dinamik Viskozite: 50 °C'de ~40 ila 50 mPa·s (erimiş %100 sınıf); 25 °C'de ~45 ila 60 mPa·s (TMDD-PG50); 25 °C'de ~38 mPa·s (TMDD-E50)
- Statik Denge Yüzey Gerilimi (25 °C'de Suda Ağırlıkça %0.10 Aktif, Du Noüy Halkası): 29.0 ila 31.5 mN/m (din/cm; ağırlıkça %0.01'de 38.0 ila 40.0 mN/m)
- Dinamik Yüzey Gerilimi (25 °C'de Suda Ağırlıkça %0.10 Aktif, Maksimum Kabarcık Basınçlı Tansiyometre):
  - Saniyede 1 kabarcıkta: 31.0 ila 32.5 mN/m (din/cm)
  - Saniyede 6 kabarcıkta: 33.0 ila 36.0 mN/m (din/cm)
- Ross-Miles Köpük Yüksekliği (25 °C'de Suda Ağırlıkça %0.10 Aktif, ASTM D1173): Başlangıçta 0.0 mm / 5 dakika sonra 0.0 mm (%100 Köpürmeyen / Köpük Kesici!)
- Draves Pamuk Çilesi Islatma Süresi (25 °C'de Ağırlıkça %0.10 Aktif, ASTM D2281): <= 8 ila 15 saniye
- Hidrofil-Lipofil Denge (HLB): ~4.0
- Su İçeriği (Karl Fischer, %100 Sınıf): Ağırlıkça <= %0.30 (tipik olarak ağırlıkça <= %0.15)
- pH (25 °C'de Ağırlıkça %0.1 Sulu Dispersiyon): 6.0 ila 8.0 (nötr)
- 25 °C'de Suda Çözünürlük: ~1.1 ila 1.7 g/L (ağırlıkça %0.11 ila %0.17; %0.17 üzerinde glikol eterler, eş çözücüler veya etoksillenmiş yüzey aktif maddelerle çözündürülür)
- Oktanol-Su Dağılım Katsayısı (log Pow / log Kow, OECD 117): 2.6 ila 2.8

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İÇİN HER ÖNEMLİ ÖZELLİK UYGULAMADA NEDEN ÖNEMLİDİR?

 Düz Dinamik Yüzey Gerilimi Eğrisi (1 kabarcık/s'de ~31 mN/m'den 6 kabarcık/s'de ~34 mN/m'ye):
Yüksek hızlı endüstriyel kaplama ve baskıda (yeni sıvı yüzeyin < 10 ila 50 milisaniyede oluştuğu), statik yüzey gerilimi 30 mN/m olan geleneksel bir alkol etoksilat veya sülfosüksinat yüzey aktif madde, miselleri yeterince hızlı açılamadığından genellikle saniyede 6 kabarcıkta 55 ila 65 mN/m dinamik yüzey gerilimi gösterir; bu da film geri çekilmesine, kenarlarda birikmeye ve ıslanmamış iğne deliklerine neden olur! Tetrametildesindiol (TMDD) rijit miseller oluşturmayıp serbest monomerler halinde difüze olduğundan, saniyede 6 kabarcıktaki dinamik yüzey gerilimi ~33 ila 36 mN/m gibi düşük düzeyde kalarak düşük enerjili plastiklerde, yağlı çelikte ve kaplanmış kartonda anında ıslanmayı garanti eder.

 Sıfır Ross-Miles Köpük Yüksekliği (0.0 mm) ve Mikroköpüğün Ortadan Kaldırılması:
Diğer tüm hızlı ıslatıcı sınıfları (DOSS gibi sülfosüksinatlar, doğrusal etoksilatlar veya florlu yüzey aktif maddeler) köpük kabarcıklarını stabilize ederek formülatörleri kraterlere ("balıkgözleri") neden olan ve yeniden kaplama yapışmasını bozan hidrofobik silikon veya mineral yağ köpük kesiciler eklemeye zorlar. Tetrametildesindiol (TMDD), hem dinamik ıslatıcı HEM de moleküler köpük kesicidir (0.0 mm köpük yüksekliği); yayılmayı iyileştirirken mikroköpük iğne deliklerini giderir!

 Kürlenmiş Filmlerde Düşük Su Hassasiyeti (Çözünürlük ~%0.12 ve HLB ~4):
Tetrametildesindiol (TMDD), düşük HLB'ye (~4.0), sınırlı suda çözünürlüğe (~1.2 g/L) sahip olduğundan ve hidrofilik polioksietilen zincirleri içermediğinden, su bazlı kaplama, mürekkep veya basınca duyarlı yapıştırıcı kuruduktan sonra kalıntı Tetrametildesindiol (TMDD), kürlenmiş film yağmura, yoğuşmaya veya buzlu suya daldırmaya maruz kaldığında su kaynaklı bulanıklığa, beyazlaşmaya veya yaş yapışma kaybına neden OLMAZ!

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) HANGİ SORUNLARIN ÇÖZÜMÜNE YARDIMCI OLABİLİR?

Düşük Enerjili ve Kirlenmiş Substratlarda Kraterlerin, "Balıkgözlerinin", Açılmanın ve Çerçevelenme Etkisinin Giderilmesi: Su bazlı otomotiv baz katlarına, endüstriyel metal astarlarına, ahşap laklarına ve plastik kaplamalara ağırlıkça %0.1 ila %0.5 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) eklenmesi, dinamik yüzey gerilimini ~31 mN/m'ye düşürerek yaş filmin hafif yağlı çelik, korona işlemli PE/PP/PET filmler ve silikonla kirlenmiş ahşap üzerinde açılmadan veya kraterleşmeden yayılıp ıslatmasını sağlar.

Silikon Köpük Kesiciler Olmadan Görünmez Mikroköpük İğne Deliklerinin ve Hava Sürüklenmesinin Ortadan Kaldırılması: Havasız püskürtme kaplamalarda, perde kaplamalarda, daldırma kaplamalarda (lateks eldivenler) ve iki bileşenli su bazlı poliüretanlarda Tetrametildesindiol (TMDD), çapı < 50 mikron olan mikro kabarcıkları kararsızlaştırır; böylece yüzey iğne delikleri halinde fırınlanmak yerine yaş uçuşma aşamasında patlarlar.

Fleksografik, Tifdruk ve Mürekkep Püskürtmeli Mürekkeplerde Yüksek Hızlı Baskı Köpürmesinin ve Zayıf Nokta Kazancının Çözülmesi: Su bazlı flekso/tifdruk ambalaj mürekkeplerinde ve piezo/termal mürekkep püskürtme sıvılarında, ağırlıkça %0.2 ila %0.8 Tetrametildesindiol (TMDD), > 300 m/dakika baskı hızlarında mürekkep haznesi köpürmesini önler ve son derece keskin tram noktaları için kâğıt ve film üzerinde damla yayılmasını kontrol eder.

Ofset Litografik Nemlendirme Çözeltilerinde İzopropanolün (IPA) İkamesi: Tabaka ve web ofset nemlendirme suyunda Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün etoksillenmiş TMDD ile (4-EO veya 10-EO TMDD gibi) karıştırılması, dinamik ara yüzey gerilimini uçucu izopropanolü (IPA) %12'den %0–%2'ye indirmeye veya tamamen gidermeye yetecek hızda düşürür!

Pigment Öğütmenin Hızlandırılması ve Öğütme Bazı Viskozitesinin Düşürülmesi: Sulu TiO2, demir oksit, karbon siyahı ve organik pigment süspansiyonlarına ağırlıkça %0.2 ila %1.0 Tetrametildesindiol (TMDD) eklenmesi, pigment aglomeralarının iç gözeneklerinde hapsolmuş havayı uzaklaştırarak boncuklu öğütme süresini %20 ila %35 kısaltır ve öğütme bazı köpürmesini önler.

Kuru Karışım Fayans Yapıştırıcılarında, Kendiliğinden Yayılan Alt Şaplarda ve Beton Katkılarında Hava Boşluklarının Giderilmesi ve Islatmanın İyileştirilmesi: Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün %50 silika destekli toz sınıfının (ağırlıkça %0.05 ila %0.25 TMDD-50S) kullanılması, polimer modifiye çimento harçları ve alçı süspansiyonlarının havasını gidererek basınç dayanımını artırır ve iğne deliği içermeyen düzgün zeminler oluşturur.

ÜRETİCİ VE SON KULLANICI İÇİN FAYDALAR

- Üçü Bir Arada Çok İşlevlilik: Eş zamanlı olarak dinamik substrat ıslatıcısı, moleküler mikroköpük kesici/hava giderici ve pigment öğütme yardımcısı görevi görür.
- %100 Silikonsuz, Yağsız ve Florsuz (PFAS İçermeyen): Silikon kraterleri, katlar arası yeniden kaplanabilirlik kaybı, ısıyla yapışma kaybı veya mevzuata tabi PFAS bulaşması riski sıfırdır.
- Su Direncine veya Yaş Yapışmaya Sıfır Olumsuz Etki: Kurumuş kaplama veya yapıştırıcı filmlerinde yeniden emülsifikasyona veya suyla beyazlaşmaya ("bulanıklık") neden olmaz.
- Gıda Ambalajı ve Tarım İçin Geniş Mevzuat İzinleri: ABD FDA 21 CFR 175.105 (yapıştırıcılar), 175.300 (reçinemsi/polimerik kutu ve rulo sac kaplamaları), 176.170/176.180 (gıda temaslı kâğıt/karton) ve ABD EPA 40 CFR 180.910/180.920 (bitki koruma inert bileşenleri) kapsamında izinlidir.
- Eksiksiz Sıvı ve Toz Sunum Formları: Her türlü çözücü veya VOC gereksinimine uygun olarak %100 katı, Propilen Glikol, Etilen Glikol, DPM, Bütil Glikol, 2-Etilhekzanol, IPA içinde veya Amorf Silika tozu üzerinde mevcuttur.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) UYGULAMALARI

Tetrametildesindiol (TMDD), sekiz yüksek teknolojili endüstriyel uygulama sektöründe kullanılır:
Tetrametildesindiol (TMDD); Su Bazlı Otomotiv OEM Baz Katları ve Astarları, Endüstriyel Metal ve Rulo Sac Kaplamaları, Ahşap Mobilya Lakları, Elektroforetik Kaplama (E-Coat) Boyaları, Mimari Emayeler ve Gıda Kutusu İç Kaplamalarında birincil dinamik ıslatıcı, yayılma ve krater önleyici olarak kullanılır.
Tetrametildesindiol (TMDD); Su Bazlı Fleksografik ve Tifdruk Ambalaj Baskı Mürekkepleri, Üst Baskı Vernikleri (OPV), Dijital Piezo/Termal Mürekkep Püskürtmeli Mürekkepler ve IPA İçermeyen Ofset Litografik Nemlendirme Çözeltilerinde yüksek hızlı dinamik ıslatma, köpük bastırma ve nokta keskinliği kontrolü için kullanılır.
Ayrıca Tetrametildesindiol (TMDD), yüksek hızlı yarık kalıp/tifdruk kaplama çizgilerini, balıkgözlerini ve mikroköpük kabarcıklarını gidermek için Su Bazlı Basınca Duyarlı Yapıştırıcıların (etiket ve bantlar için Akrilik, VAE ve SBR Emülsiyon PSA'ları) ve Esnek Gıda Ambalajı Laminasyon Yapıştırıcılarının hazırlanmasında kullanılır.
Sulu Organik ve İnorganik Pigment Dispersiyonları, Seramik Sırları ve Kâğıt Kaplama Karışımlarında Tetrametildesindiol (TMDD), düşük köpüklü pigment gözenek ıslatıcısı ve viskozite düşürücü öğütme yardımcısı olarak kullanılır.

Kuru Karışım Yapı Harçları, Kendiliğinden Yayılan Çimento Esaslı Alt Şaplar (SLU), Fayans Yapıştırıcıları, Derz Dolguları ve PCE Beton Süperakışkanlaştırıcılarında Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün silika tozu ve sıvı sınıfları, hapsolmuş hava iğne deliklerini gidermek ve substrat ıslatmasını iyileştirmek için kullanılır.
Bunun yanında Tetrametildesindiol (TMDD), Agrokimyasal Bitki Koruma Formülasyonlarında (SC, EW, SE, SL, WDG ve WP) ve Tank Karışımı Püskürtme Adjuvanlarında, tankta köpük oluşturmadan damla dinamik yüzey gerilimini düşürmek ve mumsu bitki yapraklarında püskürtmenin sekmesini önlemek için uygulanır.
Ek olarak Tetrametildesindiol (TMDD); Sentetik Lateks Daldırmada (Nitril NBR, Doğal Kauçuk ve Polikloropren cerrahi ve muayene eldivenlerinde iğne deliklerini önleme), Metal İşleme Sıvılarında, Elektrokaplama ve Asitle Dekapaj Banyolarında ve Yarı İletken Silisyum Plaka Aşındırma/Geliştirici Çözeltilerinde kullanılır.
Ayrıca %100 Aktif Tetrametildesindiol (TMDD), Etoksillenmiş Tetrametildesindiol Yüzey Aktif Maddeleri (CAS 9014-85-1, Surfynol 420, 440, 465, 485 eşdeğerleri) üretmek için 1.3 ila 30 mol Etilen Oksitle reaksiyona sokulan hidrofobik başlangıç diolü olarak kullanılır.

HANGİ SEKTÖRLER TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) KULLANIR?

- Su Bazlı Boya, Otomotiv OEM Kaplaması, Kutu/Rulo Sac Kaplaması ve Ahşap Son Kat Sektörü, silikonsuz dinamik ıslatma, krater önleme ve mikroköpük havasını giderme için Tetrametildesindiol (TMDD) kullanır.
- Baskı Mürekkebi (Flekso, Tifdruk, Serigrafi), Dijital Mürekkep Püskürtme ve Ofset Nemlendirme Çözeltisi Sektörü, yüksek hızlı film ıslatma ve sıfır hazne köpürmesi elde etmek için Tetrametildesindiol (TMDD) kullanır.
- Basınca Duyarlı Yapıştırıcı (PSA), Etiket Malzemesi ve Esnek Ambalaj Laminasyon Yapıştırıcısı Sektörü, kusursuz yüksek hızlı web kaplama için Tetrametildesindiol (TMDD) ürününe dayanır.
- Yapı Kimyasalları, Kuru Karışım Harcı, Kendiliğinden Yayılan Zemin ve Beton Katkısı Sektörü, Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün sıvı ve toz sınıflarını priz geciktirmeyen hava tahliye maddesi olarak kullanır.
- Agrokimyasal Formülasyon, Lateks Eldiven Daldırma ve Selüloz ve Kâğıt Kaplama Sektörü, düşük köpüklü ıslatma ve iğne deliği giderimi için Tetrametildesindiol (TMDD) kullanır.
- Yarı İletken Elektroniği, Elektrokaplama, Metal İşleme Sıvısı ve Özel Yüzey Aktif Madde Üretim Sektörü, ultra temiz plaka ıslatma ve etoksilat sentezi için yüksek saflıkta Tetrametildesindiol (TMDD) kullanır.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) ÜRÜNÜNÜN SU BAZLI KAPLAMALARDA, BASKI MÜREKKEPLERİNDE, NEMLENDİRME ÇÖZELTİLERİNDE VE YAPIŞTIRICILARDA KULLANIMI

- Tetrametildesindiol (TMDD) ile Su Bazlı Endüstriyel, Otomotiv ve Ahşap Kaplamaları: Su bazlı akrilik, stiren-akrilik, poliüretan dispersiyonu (PUD), alkid emülsiyonu ve 2K su bazlı epoksi/poliüretan kaplamalarda, ağırlıkça %0.15 ila %0.60 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) eklenmesi (tipik olarak pigment öğütme veya son karıştırma aşamasında TMDD-PG50, TMDD-DPM50 veya TMDD-BC50 gibi %50 sıvı çözeltiden ağırlıkça %0.3 ila %1.2 dozlanır), dinamik yüzey gerilimini ~31–33 mN/m'ye düşürür. Saf Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün saf sudaki denge çözünürlüğü ağırlıkça ~%0.12 (1.2 g/L) olduğundan, %3 ila %10 glikol eter eş çözücüler (DPM, PnB veya bütil glikol gibi) ve akrilik/PUD reçineler içeren kaplamalarda Tetrametildesindiol (TMDD), ağırlıkça %0.5–%1.0'a kadar tamamen çözündürülür. Daha yüksek suda çözünürlüğün gerektiği sıfır VOC'li, eş çözücüsüz kaplamalarda formülatörler Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü 4 mol veya 10 mol etoksillenmiş TMDD (CAS 9014-85-1) veya noniyonik yüzey aktif maddeyle 1:1 ila 1:2 oranında karıştırır; böylece etoksilat, sıfır köpüklü dinamik ıslatmayı korurken yağlı faz ayrılmasını önleyen misel taşıyıcı görevi görür.

- Tetrametildesindiol (TMDD) ile Su Bazlı Fleksografik/Tifdruk Mürekkepler, Mürekkep Püskürtme Sıvıları ve Ofset Nemlendirme Çözeltileri: Düşük yüzey enerjili korona işlemli polietilen (PE), polipropilen (BOPP), PET ve folyo üzerine 200 ila 500 m/dakika hızla basılan su bazlı flekso ve tifdruk mürekkeplerde, ağırlıkça %0.2 ila %1.0 TMDD-PG50 veya TMDD-PA75 (izopropanol içinde), rakle ve mürekkep tavası köpürmesini giderirken ince aniloks hücrelerinden tam mürekkep aktarımı sağlar. Dijital sulu mürekkep püskürtmeli mürekkeplerde ağırlıkça %0.1 ila %0.5 Tetrametildesindiol (TMDD), mikro kabarcık kaynaklı besleme kesilmesi olmadan yazıcı kafası nozul plakasında milisaniyenin altında menisküs toparlanması sağlar (10 ila 50 kHz atım frekansı).
- Tetrametildesindiol (TMDD) ile Su Bazlı Basınca Duyarlı Yapıştırıcılar (PSA'lar) ve Laminasyon Yapıştırıcıları: Düşük enerjili silikonlu ayırıcı astarlara > 300 m/dakika hızla kaplanan akrilik ve karboksillenmiş SBR/VAE emülsiyon PSA'larında, geleneksel sülfosüksinat ıslatıcılar (DOSS) devridaim kaplama tavasında ciddi köpük oluşturur ve şeffaf "etiketsiz görünüm" içecek etiketlerinde suyla beyazlaşmaya neden olur. Ağırlıkça %0.15 ila %0.50 TMDD-PG50 veya TMDD-A50 (2-etilhekzanol içinde) katılması, devridaim köpüğünü tamamen bastırır ve soyulma veya kesme yapışmasını azaltmadan silikonlu astarlarda yapıştırıcı geri çekilmesini ("açılma") önler.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) ÜRÜNÜNÜN KURU KARIŞIM YAPI HARÇLARINDA, LATEKS ELDİVEN DALDIRMADA VE AGROKİMYASALLARDA KULLANIMI

- Tetrametildesindiol (TMDD) ile Kuru Karışım Harçları, Fayans Yapıştırıcıları ve PCE Beton Süperakışkanlaştırıcıları: Kendiliğinden yayılan çimento esaslı alt şaplarda (SLU), polimer modifiye fayans yapıştırıcılarında ve büzülmeyen grout harçlarında, kuru torba karışımına ağırlıkça %0.05 ila %0.25 oranında %50 silika destekli toz sınıfın (TMDD-50S) eklenmesi, sahada su eklendiğinde anında toz ıslanması sağlar ve malalama veya pompalama sırasında hapsolmuş hava kabarcıklarını serbest bırakır; böylece yüzey iğne delikleri ("hava boşlukları") giderilir ve 28 günlük basınç dayanımı %5 ila %12 artar. Sıvı polikarboksilat eter (PCE) beton süperakışkanlaştırıcı katkılarında ağırlıkça %0.05 ila %0.20 TMDD-PG50, amaçlı mikro hava sürüklenmesini korurken dayanımı azaltan kaba hava boşluklarını gideren, ayrışmayan hava giderici görevi görür.
- Tetrametildesindiol (TMDD) ile Sentetik Lateks Daldırma (NBR / NR Eldivenler) ve Agrokimyasal Formülasyonlar: Ultra ince nitril (NBR) ve doğal kauçuk tıbbi muayene eldivenlerinin üretiminde hem kalsiyum nitrat pıhtılaştırıcı banyosuna hem de hazırlanmış lateks daldırma tankına ağırlıkça %0.1 ila %0.4 Tetrametildesindiol (TMDD) eklenmesi, porselen kalıbın düzgün ıslanmasını sağlar ve ölümcül mikro kabarcık iğne deliklerini ortadan kaldırır.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) KULLANIMINDA FORMÜLASYON VE PROSESLE İLGİLİ HUSUSLAR

 %100 Aktif Katı Tetrametildesindiol (TMDD) Ürününün Eritilmesi ve Çözündürülmesi ile Pompalanmaya Hazır %50 Sıvı Sınıfların Kullanımının Karşılaştırılması:
- %100 Aktif Katı TMDD'nin Elleçlenmesi (Erime Noktası 37–46 °C): Varil veya kovalardaki %100 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü sıvılaştırmak için kapalı kabı termostatlı sıcak hava fırınında veya 50 ila 60 °C'lik ılık su banyosunda tamamen berrak akışkan sıvıya (~45 mPa·s) eriyene kadar ısıtın, nazikçe karıştırın ve sulu faza eklemeden ÖNCE doğrudan formülasyonunuzun eş çözücüsünde (propilen glikol, DPM, bütil glikol veya alkol gibi) çözün.
- Eş Çözücüsüz Su Sistemlerinde Kristal Ayrılmasının ("Tohumlanma") Önlenmesi: Erimiş %100 saf Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü, kendi suda çözünürlük sınırının (20 °C'de ağırlıkça ~%0.12) üzerindeki derişimlerde asla doğrudan soğuk, yüzey aktif madde içermeyen suya dökmeyin; aksi halde fazla çözünmemiş TMDD, hidrofobik krater çekirdekleri gibi davranabilen küçük mumsu kristallere katılaşır! Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü daima glikol veya glikol eter eş çözücüde ön çözündürün (veya Ataman Kimya'nın pompalanmaya hazır %50 sıvı sınıfları TMDD-PG50, TMDD-E50, TMDD-DPM50 veya TMDD-BC50'yi kullanın) ve yüksek kesmeli karıştırma altında ekleyin (pigment öğütme bazı veya yüksek hızlı son karıştırma gibi); böylece %0.12 üzerindeki derişimler bağlayıcı ve eş yüzey aktif maddelerle kararlı biçimde çözündürülür.

Yüksek Kesmeli Katma Protokolü:
Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü düşük viskoziteli su bazlı kaplamanın veya şeffaf üst baskı verniğinin son karıştırma sonrası aşamasında eklerken, lateks miselleri ve eş çözücü fazı boyunca tam moleküler dispersiyon sağlamak için en az 15 ila 30 dakika orta-yüksek kesme altında karıştırın.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İÇİN TİPİK KULLANIM ORANLARI VE BAŞLANGIÇ FORMÜLASYON YAKLAŞIMLARI

Tetrametildesindiol (TMDD) için tipik ticari katılım oranları (hem %100 aktif TMDD bazında hem de %50 sıvı/toz ürün bazında ifade edilir) şunlardır:
- Su Bazlı Endüstriyel, Ahşap, Kutu ve Otomotiv Kaplamaları: Toplam formülasyon ağırlığı üzerinden ağırlıkça %0.05 ila %0.40 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (TMDD-PG50, TMDD-DPM50 veya TMDD-BC50 gibi %50 sıvı sınıfın ağırlıkça %0.10 ila %0.80'ine eşdeğer).
- Su Bazlı Fleksografik ve Tifdruk Baskı Mürekkepleri ve Üst Baskı Vernikleri (OPV): Ağırlıkça %0.10 ila %0.50 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (%50 sıvı sınıfın ağırlıkça %0.20 ila %1.00'ı).
- Dijital Sulu Piezo ve Termal Mürekkep Püskürtmeli Mürekkepler: Ağırlıkça %0.05 ila %0.30 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (sıklıkla etoksillenmiş TMDD 10-EO ile eşleştirilir).
- IPA İçermeyen / Düşük IPA'lı Ofset Litografik Nemlendirme Çözeltisi Konsantreleri: Konsantrede ağırlıkça %0.50 ila %2.50 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (seyreltilmiş baskı nemlendirme suyunda ağırlıkça %0.01 ila %0.05 aktif TMDD sağlar).
- Su Bazlı Basınca Duyarlı Yapıştırıcılar (PSA) ve Laminasyon Yapıştırıcıları: Ağırlıkça %0.10 ila %0.40 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (ağırlıkça %0.20 ila %0.80 TMDD-PG50 veya TMDD-A50).
- Sulu Pigment Konsantreleri ve Öğütme Bazları (TiO2, Karbon Siyahı, Organik Pigmentler): Toplam öğütme bazı ağırlığı üzerinden ağırlıkça %0.15 ila %0.80 aktif Tetrametildesindiol (TMDD).
- Kuru Karışım Çimento Esaslı Kendiliğinden Yayılan Alt Şaplar, Fayans Yapıştırıcıları ve Derz Dolguları: Ağırlıkça %0.03 ila %0.15 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (kuru harç ağırlığı üzerinden %50 silika tozu sınıfı TMDD-50S'nin ağırlıkça %0.06 ila %0.30'u).
- Agrokimyasal Süspansiyon Konsantreleri (SC) ve Islanabilir Tozlar (WP/WDG): Ağırlıkça %0.10 ila %0.60 aktif Tetrametildesindiol (TMDD).
Aşağıdaki dört laboratuvar ve pilot çalışma çerçevesi, Tetrametildesindiol (TMDD) ile formülasyon hazırlayan yetkin teknik personel için ön Ar-Ge değerlendirme protokollerini göstermektedir.

ÖRNEK 1: TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İLE FORMÜLE EDİLMİŞ KRATERSİZ, İĞNE DELİKSİZ SU BAZLI POLİÜRETAN-AKRİLİK AHŞAP VE METAL EMAYESİ

Amaç: Tetrametildesindiol (TMDD) ile modifiye edilmiş (Dipropilen Glikol Metil Eter içinde %50, TMDD-DPM50) su bazlı Poliüretan-Akrilik hibrit son katta, hafif kirlenmiş soğuk haddelenmiş çelik ve meşe kaplama paneller üzerinde dinamik yüzey gerilimi düşüşünü (6 kabarcık/saniyede), havasız püskürtme mikroköpük iğne deliği giderimini ve krater direncini değerlendirmek.
Başlangıç su bazlı emaye formülasyonu (1,000.0 g parti başına, katılar ağırlıkça ~%38.0, VOC < 50 g/L):
- Öğütme Bazı Öğütme Aşaması:
  - Deiyonize Su: 65.0 g
  - Dipropilen Glikol Monometil Eter (DPM, koalesan / eş çözücü): 20.0 g
  - DPM İçinde Tetrametildesindiol (TMDD) %50 Çözeltisi (CAS 126-86-3, Ataman Kimya TMDD-DPM50 Sınıfı,Surfynol 104DPM eşdeğeri, pigment gözenek ıslatma ve öğütme bazı köpük kontrolü için 2.0 g = ağırlıkça %0.20 aktif TMDD sağlar): 4.0 g
  - Akrilik Blok Kopolimer Pigment Dispersanı (%40 aktif): 8.5 g
  - Rutil Titanyum Dioksit Pigmenti (TiO2, Al/Zr yüzey işlemli): 190.0 g
- Son Karıştırma Aşaması:
  - Alifatik Poliüretan-Akrilik Hibrit Dispersiyon (%40.0 katı, MFFT 12 °C, pH 8.1): 650.0 g
  - Dipropilen Glikol n-Bütil Eter (DPnB, film koalesanı): 15.0 g
  - DPM İçinde Tetrametildesindiol (TMDD) %50 Çözeltisi (son karıştırmada ek 1.5 g = ağırlıkça %0.15 aktif TMDD sağlamak için eklenir; Formüldeki toplam aktif TMDD = ağırlıkça %0.35): 3.0 g
  - Noniyonik Asosyatif Poliüretan (HEUR) Reoloji Düzenleyici (%20 aktif): 12.0 g
  - 1,2-Benzizotiyazolin-3-on (BIT, %20 biyosit) + Deiyonize Su (tamamlama): 32.5 g
Laboratuvar değerlendirme prosedürü:
- Aşama 1 (Öğütme Bazı Köpüğü Olmadan Yüksek Hızlı Pigment Dispersiyonu): 65.0 g su, 20.0 g DPM, 4.0 g TMDD-DPM50 ve 8.5 g dispersanı ceketli dispersiyon kabında ön karıştırın, 190.0 g TiO2 ekleyin ve Cowles testere dişli bıçak kullanarak 4,000 rpm'de 20 dakika disperse edin. Hegman öğütme inceliği >= 7.5 olduğunu doğrulayın ve öğütme bazı yaş yoğunluğunu ölçün: >= 1.82 g/cm3 olduğunu doğrulayın (Tetrametildesindiol (TMDD) sayesinde yüksek kesmeli dispersiyon sırasında sıfır hava sürüklenmesini doğrular!).
- Aşama 2 (Son Karıştırma ve Yüksek Kesmeli Dengeleme): Orta pervaneli karıştırma altında (500 rpm) 650.0 g PU-akrilik dispersiyonu ekleyin; ardından 15.0 g DPnB koalesanı ve 3.0 g TMDD-DPM50 ön karışımını 10 dakika boyunca yavaşça dozlayın. 20 dakika karıştırın, HEUR kıvamlaştırıcı ve suyla viskoziteyi 85 KU'ya ayarlayın ve gece boyunca dengelenmeye bırakın.
- Aşama 3 (Dinamik Yüzey Gerilimi, Havasız Püskürtme İğne Deliği ve Krater Testleri): Saniyede 6 kabarcıkta Dinamik Yüzey Gerilimini ölçün (kabarcık basınçlı tansiyometrede suda 1:4 seyreltme: işlem görmemiş kontrolün 56.0 mN/m değerine karşı <= 34.5 mN/m olduğunu doğrulayın!). Emayeyi havasız püskürtmeyle (150 bar, 0.013 inç uç), bilinçli olarak 5 mg/m2 pres yağıyla hafifçe silinmiş soğuk haddelenmiş çelik panellere 125 mikron yaş film kalınlığında uygulayın ve 60 °C'de fırınlayın/kürleyin: sıfır krater veya balıkgözüyle %100 ıslanmayı, 125 mikron yaş katmanda 40x mikroskop incelemesinde sıfır mikroköpük iğne deliğini, 60° aynasal parlaklık >= 88 GU değerini ve ikinci katla yeniden kaplandığında %100 çapraz kesme katlar arası yapışmayı (ASTM D3359 5B) doğrulayın!

ÖRNEK 2: TMDD-PG50 İLE KORONA İŞLEMLİ POLİETİLEN / BOPP FİLM İÇİN YÜKSEK HIZLI SU BAZLI FLEKSOGRAFİK AMBALAJ MÜREKKEBİ

Amaç: 38 din korona işlemli LDPE ve BOPP ambalaj filmleri üzerine yüksek hızlı baskı (300 m/dakika) için Tetrametildesindiol (TMDD) (Propilen Glikol içinde %50, TMDD-PG50) kullanarak sıfır köpüklü, hızlı ıslatan su bazlı fleksografik siyan mürekkep formüle etmek.
Başlangıç su bazlı flekso mürekkep formülasyonu (1,000.0 g parti başına, 25 °C'de Zahn Kabı No. 2 ile 20–22 saniye viskozite):
- Sulu Ftalosiyanin Mavisi 15:3 Pigment Baz Dispersiyonu (%42 pigment, stiren-akrilik reçineyle stabilize edilmiş): 350.0 g
- Film Oluşturan Stiren-Akrilik Emülsiyon Bağlayıcısı (%45 katı, Tg -5 °C, pH 8.3): 460.0 g
- Polietilen / PTFE Mikronize Mum Dispersiyonu (%35 katı, sürtünme/kayma düzenleyici): 35.0 g
- n-Propanol / Propilen Glikol Eş Çözücü Karışımı (2:1, kuruma hızı ve yeniden çözünürlük ayarlayıcı): 50.0 g
- Propilen Glikol İçinde Tetrametildesindiol (TMDD) %50 Çözeltisi (CAS 126-86-3, Ataman Kimya TMDD-PG50 Sınıfı, Surfynol 104PG-50 eşdeğeri, FDA 21 CFR 175.105 / 176.170 uyumlu, 4.0 g = ağırlıkça %0.40 aktif TMDD sağlar): 8.0 g (tedarik edildiği haliyle ağırlıkça %0.80)
- Etoksillenmiş Tetrametildesindiol (10 mol EO, HLB 13, misel çözündürücü eş yüzey aktif madde): 2.0 g (ağırlıkça %0.20)
- Deiyonize Su + Dimetiletanolamin (DMEA, pH 8.6'ya kadar): 95.0 g
Laboratuvar değerlendirme prosedürü:
- 8.0 g TMDD-PG50 ve 2.0 g etoksillenmiş TMDD'yi 50.0 g n-propanol/propilen glikol eş çözücü içinde kristal berraklığına ulaşana kadar ön karıştırın; ardından 350.0 g siyan pigment bazı ve 460.0 g stiren-akrilik emülsiyonun 600 rpm'de karıştırılan karışımına 15 dakika boyunca yavaşça ölçülü besleyin.
- 25 °C'de Zahn Kabı No. 2 akış süresini 21.0 saniyeye ayarlamak için 35.0 g mum dispersiyonunu ve kalan amonyaklı/DMEA'lı suyu ekleyin.
- Bitmiş mürekkebin 500 mL'sini 60 dakika yüksek hızlı devridaimli peristaltik/dişli pompalı mürekkep tavası köpük testine tabi tutun: sıfır yüzey köpüğü birikimini ve < %1 yoğunluk düşüşünü doğrulayın (sodyum dioktil sülfosüksinat DOSS kullanıldığında > %25 köpük taşmasına kıyasla!).
- Mürekkebi 400 çizgi/inç seramik aniloks merdane kullanarak 38 din/cm korona işlemli LDPE ve BOPP filmlere basın: 55 °C'de 5 saniye kurutmadan sonra %100 iğne deliksiz dolu alan kaplaması, nokta köprülenmesi olmadan keskin tram noktası üretimi, 60° parlaklık >= 72 GU ve %100 buruşturma/bant yapışması (ASTM D3359) doğrulayın.

ÖRNEK 3: TMDD İLE YÜKSEK HIZLI SU BAZLI AKRİLİK BASINCA DUYARLI YAPIŞTIRICININ (PSA) HAVASININ GİDERİLMESİ VE SİLİKONLU ASTARIN ISLATILMASI

Amaç: Tetrametildesindiol (TMDD) (2-Etilhekzanol içinde %50, TMDD-A50 veya Propilen Glikol içinde %50, TMDD-PG50) kullanarak su bazlı akrilik etiket Basınca Duyarlı Yapıştırıcısında (PSA) yarık kalıp/tifdruk kaplama çizgilerini (düşük enerjili silikonlu ayırıcı astarlarda "açılma") ve devridaim mikroköpüğünü gidermek.
Başlangıç su bazlı PSA formülasyonu (1,000.0 g parti başına, katılar ağırlıkça ~%56.0):
- Karboksillenmiş 2-Etilhekzil Akrilat / Bütil Akrilat Kopolimer PSA Emülsiyonu (%58.0 katı, Tg = -42 °C, pH 7.5, başlangıç yüzey gerilimi 46 mN/m): 960.0 g
- Propilen Glikol veya 2-Etilhekzanol İçinde Tetrametildesindiol (TMDD) %50 Çözeltisi (CAS 126-86-3, Ataman Kimya Yapıştırıcı Sınıfı, FDA 21 CFR 175.105 uyumlu, 2.5 g = ağırlıkça %0.25 aktif TMDD sağlar): 5.0 g (tedarik edildiği haliyle ağırlıkça %0.50)
- Polieter Modifiye Sülfosüksinat Eş Islatıcı Yüzey Aktif Madde (isteğe bağlı, çok düşük düzeye indirilmiş): 1.5 g (ağırlıkça %0.15)
- Deiyonize Su + Sulu Amonyak (pH'yı 8.0'a ve Brookfield viskozitesini 20 rpm'de 450 mPa·s'ye ayarlamak için): 33.5 g
Laboratuvar değerlendirme prosedürü:
- 5.0 g TMDD-%50 çözeltisini ve 1.5 g eş yüzey aktif maddeyi yüksek kesmeli karıştırma altında 15.0 g ılık deiyonize suyla seyreltin; ardından 400 rpm'de 15 dakika boyunca 960.0 g akrilik PSA emülsiyonuna sıvı yüzeyinin altından ölçülü besleyin (girdapla hava hapsini önleyerek) ve 30 dakika karıştırın.
- Dinamik yüzey gerilimini ölçün (46 mN/m'den 31.8 mN/m'ye düşüşü doğrulayın) ve 3,000 rpm Waring blender hava sürükleme testi yapın: sürüklenen mikro kabarcıkların yağlı silikon damlaları bırakmadan < 10 dakika içinde tamamen giderildiğini doğrulayın.
- PSA'yı yüksek hızlı laboratuvar ters tifdruk kaplayıcıyla düşük enerjili (20 mN/m) silikonlu glassine ayırıcı astara 20 g/m2 kuru kaplama ağırlığında uygulayın, 90 °C'de 2 dakika kurutun ve şeffaf BOPP filme lamine edin ("etiketsiz görünüm" içecek etiketi): silikonlu astarda sıfır kenar geri çekilmesi veya kuru nokta krateri, optik bulanıklık < %0.8, 4 °C buzlu suya 24 saat daldırmadan sonra sıfır suyla beyazlaşma ("bulanıklık") ve 180° paslanmaz çelik soyulma yapışmasının (>= 14 N/25 mm) ve halka yapışkanlığının %100 korunmasını doğrulayın!

ÖRNEK 4: SİLİKA DESTEKLİ TOZ TMDD-50S İLE FORMÜLE EDİLMİŞ İĞNE DELİKSİZ KENDİLİĞİNDEN YAYILAN ÇİMENTO ESASLI ZEMİN ALT ŞAPI (SLU)

Amaç: Ağırlıkça %0.15 oranında %50 Silika Destekli Toz Tetrametildesindiol (TMDD) (TMDD-50S) ile formüle edilmiş polimer modifiye Kendiliğinden Yayılan Çimento Esaslı Alt Şap (SLU) kuru karışım harcında toz hava giderimini, yüzey iğne deliklerinin giderilmesini ve 28 günlük basınç dayanımı artışını değerlendirmek.
Başlangıç kuru karışım SLU harcı formülasyonu (1,000.0 g kuru toz karışımı başına; 220.0 g suyla karıştırılır):
- Normal Portland Çimentosu (CEM I 42.5 R): 220.0 g (ağırlıkça %22.0)
- Kalsiyum Alüminat Çimentosu (CAC, hızlı priz alan Ternal/Fondu tipi): 80.0 g (ağırlıkça %8.0)
- Kalsiyum Sülfat Anhidrit / Hemihidrat (büzülme dengeleyici): 50.0 g (ağırlıkça %5.0)
- Sınıflandırılmış Kuvars Silika Kumu (0.1 ila 0.4 mm): 410.0 g (ağırlıkça %41.0)
- Öğütülmüş Kalsiyum Karbonat Dolgu (d50 = 15 mikron): 203.35 g (ağırlıkça %20.335)
- Yeniden Disperse Olabilir Polimer Tozu (VAE kopolimer, Tg -7 °C, esneklik ve yapışma bağlayıcısı): 30.0 g (ağırlıkça %3.0)
- Polikarboksilat Eter (PCE) Toz Süperakışkanlaştırıcı: 2.50 g (ağırlıkça %0.25)
- Selüloz Eter (düşük viskoziteli HPMC) + Tartarik Asit + Lityum Karbonat Priz Düzenleyicileri: 2.65 g (ağırlıkça %0.265)
- Amorf Silika Taşıyıcı Üzerinde Tetrametildesindiol (TMDD) %50 Toz (CAS 126-86-3, Ataman Kimya TMDD-50S Yapı Sınıfı, Surfynol 104S eşdeğeri, 0.75 g = ağırlıkça %0.075 aktif TMDD sağlar): 1.50 g (ağırlıkça %0.15)
Laboratuvar değerlendirme prosedürü:
- Tüm toz bileşenleri laboratuvar pulluklu karıştırıcıda homojen olana kadar 5 dakika kuru karıştırın.
- Kuru SLU tozunun 1,000.0 g'ını 220.0 g musluk suyuna (20 °C) dökün ve yüksek hızlı helisel matkap karıştırıcısıyla (1,200 rpm) 2.0 dakika karıştırın.
- Yaş harç yoğunluğunu (köpük kesici olmadan %7.5 hava ve 1.94 g/cm3'e kıyasla TMDD-50S ile 2.12 g/cm3 ve <= %1.8 sürüklenen hava içeriği doğrulanır!), EN 12706 akış halkası yayılma çapını (sıfır kenar su kusmasıyla hedef >= 145 mm) ölçün ve astarlanmış beton üzerine 5.0 mm kalınlıkta test plakası dökün.
- 23 °C / %50 bağıl nemde 24 saat ve 28 gün kürlemeden sonra: doğrudan vinil zemin yapıştırmaya hazır ayna gibi düzgün, kratersiz, iğne deliksiz üst yüzeyi (zemin yapıştırıcısının bağlanmasını bozabilecek sıfır yağ tabakasıyla!) ve 28 günlük EN 13892-2 basınç dayanımı >= 36.5 MPa değerini doğrulayın (köpüğü giderilmemiş kontrole göre %18 dayanım artışı!).

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) UYUMLULUĞU VE UYUMSUZLUĞU

- Geniş Formülasyon Uyumluluğu ve Sinerjiler:
  - Reçineler ve Bağlayıcılar: Akrilik, stiren-akrilik, vinil-akrilik, VAE, SBR, NBR, poliüretan dispersiyonları (PUD'ler), alkid emülsiyonları, suyla inceltilebilir epoksiler, amino/melamin fırın reçineleri ve çimento/alçı mineral bağlayıcılarla uyumludur.
  - Sinerjik Eş Yüzey Aktif Maddeler: Etoksillenmiş Tetrametildesindioller (4-EO, 10-EO ve 30-EO TMDD gibi, CAS 9014-85-1), noniyonik alkol etoksilatlar, alkil poliglukozitler (APG'ler) ve anyonik sülfosüksinatlar / polikarboksilat dispersanlarla klasik misel çözündürme ve dinamik ıslatma sinerjisi gösterir.
  - pH ve Elektrolit Kararlılığı: Tetrametildesindiol (TMDD) hidrolizlenebilir ester bağları içermediğinden (pH 4'ün altında veya pH 9'un üzerinde hızla hidrolize olan sülfosüksinat DOSS veya organosilikonların aksine!), Tetrametildesindiol (TMDD), konsantre asit metal dekapaj banyoları ve pH 13 Portland çimentosu süspansiyonları dâhil pH 1.0 ila 14.0 boyunca hidrolitik olarak %100 kararlıdır!
- Kimyasal Uyumsuzluklar:
  - Güçlü Oksitleyici Maddeler, Halojenler ve Hidrojenasyon Katalizörleri: İç karbon-karbon üçlü bağı (-C(üçlü bağ)C-), yüksek sıcaklıklarda güçlü oksitleyicilerle (konsantre nitrik asit, permanganatlar, kromik asit, perkloratlar), serbest halojenlerle (klor, brom, iyot) ve güçlü mineral asitler veya Lewis asitleriyle ekzotermik reaksiyona girer (bunlar konjuge doymamış ketonlara Meyer-Schuster / Rupe yeniden düzenlenmesini tetikleyebilir).

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD, CAS 126-86-3) VE ETOKSİLLENMİŞ TETRAMETİLDESİNDİOLLER (SURFYNOL 420 / 440 / 465 / 485, CAS 9014-85-1)

Etoksillenmiş Tetrametildesindioller (CAS 9014-85-1), 1 mol Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün iki tersiyer -OH grubunda 1.3 mol (ağırlıkça %20 EO, HLB 4), 3.5 mol (ağırlıkça %40 EO, HLB 8), 10 mol (ağırlıkça %65 EO, HLB 13) veya 30 mol (ağırlıkça %85 EO, HLB 17) Etilen Oksitle reaksiyona sokulmasıyla üretilir. EO zincirlerinin eklenmesi, mumsu katı TMDD'yi oda sıcaklığında sıvıya dönüştürür ve suda çözünürlüğünü artırır (10-EO sınıfı için suda > %10'a kadar); ancak moleküler köpük kesme gücünü aşamalı olarak azaltır ve kürlenmiş filmin su hassasiyetini artırır. Uygulamada %100 etoksillenmemiş Tetrametildesindiol (TMDD) (CAS 126-86-3), en düşük statik/dinamik yüzey gerilimini (~29.5 mN/m), en güçlü köpük kesmeyi (0.0 mm köpük) ve en yüksek su direncini sağlar ve eş çözücüsüz su bazlı sistemlerde sıklıkla 4-EO veya 10-EO etoksilatla eşleştirilir.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD, CAS 126-86-3) VE POLİETER MODİFİYE SİLOKSANLAR (SİLİKON ISLATICILAR VE KÖPÜK KESİCİLER)

Organosilikon yüzey aktif maddeler (polieter modifiye trisiloksanlar ve polidimetilsiloksanlar), statik yüzey gerilimini 21–24 mN/m'ye düşürür; ancak silikonlar yüksek frekanslı dinamik koşullarda daha yavaş difüze olur, hidrofobik silikayla eşleştirilmedikçe makroköpüğü stabilize eder, pH 4'ün altında veya pH 9'un üzerinde hidrolize olur ve en önemlisi yeniden kaplama veya üst baskı yapıldığında ciddi kraterlere ("balıkgözleri"), gölgelenmeye ve katlar arası delaminasyona neden olur! Tetrametildesindiol (TMDD), %100 silikonsuzdur, sıfır krater oluşturur ve %100 yeniden kaplanabilirlik ve ısıyla yapışabilirlik garanti eder.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD, CAS 126-86-3) VE SODYUM DİOKTİL SÜLFOSÜKSİNAT (DOSS / AEROSOL OT, CAS 577-11-7)

Sodyum Dioktil Sülfosüksinat (DOSS), yapıştırıcılar ve mürekkeplerde yaygın kullanılan anyonik bir ıslatıcıdır; ancak DOSS yoğun, kalıcı köpük oluşturur (Ross-Miles köpüğü > 140 mm), alkali kaplamalarda hidrolize olur ve kurumuş şeffaf PSA etiketlerinde ve ahşap verniklerinde ciddi suyla beyazlaşmaya ("bulanıklık") neden olur. DOSS'un Tetrametildesindiol (TMDD) ile değiştirilmesi veya birleştirilmesi, hızlı dinamik ıslatma ve kristal berraklığında su direncini korurken köpürmeyi ortadan kaldırır.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İÇİN KALİTE SINIFLARI, KALİTE KONTROLÜ VE SATIN ALMA KRİTERLERİ

Ataman Kimya, Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü %100 aktif katı, dozlamaya hazır sıvı ve serbest akışlı toz sınıflarının tam yelpazesinde sunar:
1. TMDD %100 Aktif Katı Sınıf (Surfynol 104 Eşdeğeri):
Ağırlıkça >= %98.0 ila %99.0 2,4,7,9-tetrametil-5-desin-4,7-diol, beyaz ila açık sarı mumsu katı, erime aralığı 37 ila 46 °C, nem <= %0.30, erimiş renk <= 100 APHA, %0.1 sulu yüzey gerilimi <= 31.5 mN/m, Ross-Miles köpüğü 0.0 mm.
2. TMDD %50 ila %85 Kullanıma Hazır Sıvı Çözeltiler:
- TMDD-PG50 (Propilen Glikolde ağırlıkça %50 TMDD, Surfynol 104PG-50 eşdeğeri; düşük VOC, düşük toksisite, akma noktası <= -10 °C).
- TMDD-E50 (Etilen Glikolde ağırlıkça %50 TMDD, Surfynol 104E eşdeğeri) ve TMDD-H85 (Etilen Glikolde ağırlıkça %85 TMDD, Surfynol 104H eşdeğeri).
- TMDD-DPM50 (Dipropilen Glikol Monometil Eterde ağırlıkça %50 TMDD, Surfynol 104DPM eşdeğeri).
- TMDD-BC50 (2-Bütoksietanol / Bütil Glikolde ağırlıkça %50 TMDD, Surfynol 104BC eşdeğeri).
- TMDD-A50 (2-Etilhekzanolde ağırlıkça %50 TMDD, Surfynol 104A eşdeğeri) ve TMDD-PA75 (İzopropanolde ağırlıkça %75 TMDD, Surfynol 104PA eşdeğeri).
3. TMDD-50S Serbest Akışlı Kuru Toz Sınıfı (Surfynol 104S Eşdeğeri):
Kuru karışım harçları, fayans yapıştırıcıları, derz dolguları ve WP/WDG agrokimyasalları için yüksek gözenekli çöktürülmüş amorf silika taşıyıcı üzerine emdirilmiş ağırlıkça %46 ila %50 aktif Tetrametildesindiol (TMDD).

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) DEPOLAMA VE ELLEÇLEME

- Ataman Kimya'nın Ticari Ambalaj Biçimleri:
  - %100 Aktif Katı Sınıf: Net 170 kg veya 180 kg açık kapaklı veya dar ağızlı çelik variller, 20 kg kovalar veya 20 kg çok katmanlı astarlı torbalar (pul/pastil formu).
  - %50–%85 Sıvı Sınıflar: Net 180 kg veya 200 kg dar ağızlı çelik veya HDPE variller ve 950 kg IBC tanklar.
  - %50 Silika Tozu Sınıfı (TMDD-50S): 15 kg veya 20 kg çok katmanlı polietilen astarlı kâğıt torbalar.
- Depolama Koşulları, Varilde Eritme ve Raf Ömrü:
  - Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün tüm sınıflarını sıkıca kapatılmış orijinal kaplarda, doğrudan güneş ışığından, ısı kaynaklarından ve güçlü oksitleyici maddelerden uzakta, serin, kuru, iyi havalandırılan kapalı bir depoda (5 ila 35 °C) saklayın.
  - %100 Katı Sınıf İçin Eritme Protokolü: %100 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) varillerini sıvılaştırmak için 50 ila 60 °C'de (asla 70 °C'yi aşmadan) sıcak hava fırınında veya su banyosunda 16 ila 24 saat tamamen berrak ve sıvı olana kadar ısıtın; ardından ürünü almadan önce nazikçe karıştırın.
  - Sıvı Sınıflar İçin Soğuk Hava Notu: TMDD-E50 (etilen glikol içinde) veya TMDD-H85 kışın +5 °C'nin altına soğutulur ve kısmi kristalleşme oluşursa kristal berraklığında homojen çözeltiyi geri kazandırmak için hafifçe 25–35 °C'ye ısıtıp karıştırın. (TMDD-PG50 ve TMDD-DPM50, -10 °C'ye kadar sıvı kalır.)
  - Raf Ömrü: Açılmamış orijinal kaplarda saklandığında üretim tarihinden itibaren en az 36 ila 60 ay (3 ila 5 yıl)!
- Taşıma Sınıflandırması (ADR / RID / ADN / IMDG / IATA-DGR):
  - %100 Aktif Tetrametildesindiol (TMDD) ve Glikol/Glikol Eter Çözeltileri (Parlama Noktası > 60 °C): Taşıma için tehlikeli madde olarak düzenlenmemiştir (ADR, RID, IMDG Kodu ve IATA kapsamında Tehlikesiz Yük; yalnızca %75 İzopropanol çözeltisi TMDD-PA75'in izopropanol çözücüsü nedeniyle Sınıf 3 Alevlenir Sıvı UN 1219 olarak sınıflandırıldığına dikkat edin).

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) İÇİN İLK YARDIM ÖNLEMLERİ VE GÜVENLİK BİLGİLERİ

- Toksikolojik ve İş Yeri Güvenlik Profili (GHS / AB CLP):
  - Akut Memeli Toksisitesi: Tetrametildesindiol (TMDD), düşük-orta akut oral toksisite ve düşük dermal toksisite gösterir: Sıçan Akut Oral LD50 > 500 ila 2,000 mg/kg vücut ağırlığı (taşıyıcıya bağlı olarak bildirilen ~1,400 ila 4,600 mg/kg vücut ağırlığı); Tavşan Akut Dermal LD50 > 2,000 mg/kg vücut ağırlığı.
  - Göz Tahrişi / Hasarı (GHS05 — H318): Seyreltilmemiş %100 veya %50 Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün gözlerle doğrudan teması ciddi göz tahrişine veya kornea hasarına neden olur (Ciddi Göz Hasarı Kategori 1, H318); elleçleme sırasında kimyasal sıçrama gözlüğü zorunludur!
  - Cilt Hassaslaştırma (GHS07 — H317): AB CLP kapsamında Kategori 1B Cilt Hassaslaştırıcı olarak sınıflandırılır (H317: Konsantre ürünle tekrarlanan dermal temas halinde alerjik cilt reaksiyonuna neden olabilir). Normal %0.1–%0.5 kullanım seyreltmelerinde cildi tahriş etmez.
  - Sucul Toksisite (H412): Sucul yaşam için uzun süre kalıcı zararlı etkiler gösterir (96 saatlik Yağbaş Golyan Pimephales promelas LC50 = 36 ila 42 mg/L; Daphnia magna 48 saatlik EC50 = 88 ila 91 mg/L; Yeşil Algler 72 saatlik ErC50 = 15 ila 82 mg/L; log Kow = 2.6–2.8 ve BCF < 24 ile düşük biyobirikim potansiyeli).
- Kişisel Koruyucu Donanım (KKD) ve İlk Yardım:
  - Sıkı oturan kimyasal sıçrama gözlüğü veya yüz siperi (EN 166), geçirimsiz nitril kauçuk veya bütil kauçuk eldiven (EN 374) ve koruyucu iş giysileri kullanın.
  - Göz Teması: Göz kapaklarını iyice açık tutarak gözleri DERHAL bol miktarda ılık akan suyla en az 15 ila 20 dakika yıkayın; kolaysa kontakt lensleri çıkarın ve hemen bir göz hekimine başvurun!
  - Cilt Teması: Kirlenmiş giysileri çıkarın ve cildi sabun ve akan suyla 15 dakika iyice yıkayın; deri döküntüsü veya tahriş oluşursa tıbbi yardım alın.
  - Soluma: Sıcak buharlar, toz (50S tozundan) veya püskürtme sisleri solunursa temiz havaya çıkın.
  - Yutma: Ağzı suyla çalkalayın ve bilinç açıksa 1 bardak su için; KUSTURMAYIN ve tıbbi danışmanlık alın.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) SATIN ALIRKEN NELERE DİKKAT EDİLMELİDİR?

1. Formülasyonunuz ve VOC Hedefleriniz İçin En Uygun Fiziksel Sunum Formunu Seçin:
- Isıtılmış tanklarınız (50 °C) varsa veya kendi koalesan/eş çözücü karışımınızda ön çözündürme yapıyorsanız TMDD %100 Aktif Katıyı seçin.
- Düşük VOC'li, çevre dostu mimari boyalar, grafik sanatlar mürekkepleri ve FDA 21 CFR 175.105 gıda ambalajı yapıştırıcıları için TMDD-PG50'yi (Propilen Glikolde %50) seçin.
- Endüstriyel metal, ahşap ve otomotiv OEM kaplamaları için TMDD-DPM50'yi (Dipropilen Glikol Metil Eter içinde) veya TMDD-BC50'yi (2-Bütoksietanol içinde) seçin.
- Basınca duyarlı yapıştırıcılar ve lateks eldiven daldırmada maksimum köpük kesme sinerjisi için TMDD-A50'yi (2-Etilhekzanol içinde) seçin.
- Kuru karışım çimento esaslı fayans yapıştırıcıları, kendiliğinden yayılan alt şaplar ve WP/WDG agrokimyasalları için TMDD-50S'yi (Amorf Silika Üzerinde %50 Toz) seçin.

2. Analiz Sertifikasında GC Saflığını (%100 bazında >= %98.0–%99.0), %0.1 Sulu Yüzey Gerilimini (<= 31.5 mN/m) ve Sıfır Köpük Yüksekliğini (0.0 mm) Doğrulayın: İç mekân boyalarında veya gıda ambalajı mürekkeplerinde keton kokusu olmaması için reaksiyona girmemiş metil izobütil ketonun (MIBK) ve C8 mono-inol ön fraksiyonunun vakumda sıyrılarak ağırlıkça %0.3–%0.5'in altına indirildiğinden emin olun.
3. Eş Çözücüsüz Sulu Sistemlerde Etoksillenmiş TMDD (4-EO veya 10-EO) ile Eşleştirmeyi Değerlendirin: Su bazlı formülünüz %0 glikol/glikol eter eş çözücü içeriyorsa, Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün 4 mol veya 10 mol etoksilatıyla birlikte dozlanması (her ikisi de Ataman Kimya'dan temin edilebilir), çok düşük dinamik yüzey gerilimi sağlarken mumsu ayrılmayı önler.

ATAMAN KİMYA'DAN TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) TEDARİKİ

Ataman Kimya, yüksek saflıkta Tetrametildesindiol (TMDD) (2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol, CAS 126-86-3, EC 204-809-1, Surfynol 104 serisi eşdeğerleri) ürününü doğrudan Türkiye'deki stoklardan tüm ticari formlarda sunar: %100 Aktif Katı (TMDD %100), Propilen Glikolde %50 (TMDD-PG50), Etilen Glikolde %50 ve %85 (TMDD-E50 / TMDD-H85), DPM'de %50 (TMDD-DPM50), 2-Bütoksietanolde %50 (TMDD-BC50), 2-Etilhekzanolde %50 (TMDD-A50), İzopropanolde %75 (TMDD-PA75) ve %50 Serbest Akışlı Silika Tozu (TMDD-50S).
Etoksillenmemiş Tetrametildesindiol (TMDD) (CAS 126-86-3) yanında Ataman Kimya, Etoksillenmiş Tetrametildesindiollerin tam serisini (CAS 9014-85-1: 1.3-EO / ağırlıkça %20 EO, 3.5-EO / ağırlıkça %40 EO, 10-EO / ağırlıkça %65 EO ve 30-EO / ağırlıkça %85 EO) sunarak formülatörlerin HLB'yi 4.0'dan 17.0'a hassas ayarlamasını sağlar.

Ataman Kimya'dan yapılan her Tetrametildesindiol (TMDD) sevkiyatına; GC aktif madde tayinini, statik/dinamik yüzey gerilimini, Ross-Miles köpük yüksekliğini (0.0 mm), APHA/Gardner rengini ve Karl Fischer nemini doğrulayan partiye özel Analiz Sertifikası (CoA) ile AB REACH / CLP ve Türkiye KKDİK uyumlu Güvenlik Bilgi Formları eşlik eder.
Ataman Kimya, boya, baskı mürekkebi, yapıştırıcı ve yapı kimyasalı üreticileri için Tetrametildesindiol (TMDD) yanında glikol eter koalesanlar (DPM, DPnB, PnB, Bütil Glikol, Karbitol), TBEP yayılma maddesi, polikarboksilat dispersanlar, asosyatif HEUR/HASE kıvamlaştırıcılar ve biyositleri tek noktadan tedarik eder.
Ataman Kimya'nın teknik uzmanları, Türkiye, Avrupa, Orta Doğu, Orta Asya ve Kuzey Afrika genelinde Ar-Ge laboratuvarlarına Tetrametildesindiol (TMDD) numune değerlendirme kitleri ve dinamik yüzey gerilimi optimizasyonuyla destek verir.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) HAKKINDA SIKÇA SORULAN SORULAR

Tetrametildesindiol (TMDD) ürününü "Gemini" yüzey aktif madde yapan nedir ve neden ıslatırken köpük keser?
Bir hidrofilik baş ve bir hidrofobik kuyruğa sahip geleneksel yüzey aktif maddelerin (hava-su ara yüzeyinde dikey paketlenerek elastik, köpük stabilize edici sabun filmleri oluştururlar) aksine Tetrametildesindiol (TMDD) (CAS 126-86-3), iki dallanmış izobütil/metil hidrofobik kanatla çevrelenen merkezi hidrofilik asetilenik diol çekirdeğine (-C(OH)-C(üçlü bağ)C-C(OH)-) sahip simetrik bir "Gemini" yapıya sahiptir. Bu yapı, molekülü hava-su ara yüzeyinde düz (yatay) yatmaya zorlayarak dinamik yüzey gerilimini ~30 mN/m'ye düşürürken komşu yüzey aktif madde zincirlerinin kohezif köpük lamelleri halinde paketlenmesini önler; böylece sürüklenen kabarcıklar anında boşalır ve patlar!

Yüksek hızlı baskı mürekkeplerinde, püskürtme kaplamalarda ve yapıştırıcılarda Dinamik Yüzey Gerilimi neden Statik Yüzey Geriliminden daha önemlidir?
Statik (denge) yüzey gerilimi, dakikalarca dengelenmeden sonra durağan sıvıyı ölçer. Ancak fleksografik/tifdruk baskıda (300 m/dakika), havasız püskürtmede veya mürekkep püskürtme atımında (20 kHz), yeni sıvı-hava ve sıvı-substrat ara yüzeyleri 1 ila 20 milisaniye içinde oluşur! Geleneksel misel oluşturan yüzey aktif maddeler, yeni yüzeye milisaniyeler içinde ulaşmak için misellerini yeterince hızlı açamaz. Tetrametildesindiol (TMDD) kompakt molekül ağırlığına (226.36 g/mol) sahip olduğundan ve molekülleri rijit misellerde hapsetmediğinden, serbest monomerleri yeni ara yüzeylere milisaniyeler içinde difüze olarak tam üretim hızında açılmayı, kraterleri ve eksik baskı noktalarını önler.

Tetrametildesindiol (TMDD) neden silikon ıslatıcılar ve köpük kesicilerde görülen kraterlere ("balıkgözleri") veya yeniden kaplama yapışma kaybına asla neden olmaz?
Silikon yüzey aktif maddeler ve köpük kesiciler, kolayca çözünmeyen mikro damlalar ("balıkgözü" kraterleri) oluşturan ve kurumuş kaplama yüzeyine göç ederek sonraki katların, UV verniklerinin veya laminasyon yapıştırıcılarının yapışmasını engelleyen uyumsuz, çok düşük yüzey enerjili polidimetilsiloksan (PDMS) zincirlerine (~20 mN/m) dayanır. Tetrametildesindiol (TMDD), %100 organik, silikonsuz ve florsuzdur; kratersiz yayılma ve %100 katlar arası yeniden kaplanabilirlik sağlar.

%100 saf Tetrametildesindiol (TMDD) neden hem katı hem de Propilen Glikol (TMDD-PG50) veya DPM (TMDD-DPM50) gibi çözücülerde %50 çözeltiler olarak sunulur?
%100 saf Tetrametildesindiol (TMDD), oda sıcaklığında mumsu kristal bir katıdır (erime aralığı 37 ila 46 °C). Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün ağırlıkça %50 oranında Propilen Glikol (TMDD-PG50), Etilen Glikol (TMDD-E50), Dipropilen Glikol Metil Eter (TMDD-DPM50), 2-Bütoksietanol (TMDD-BC50) veya 2-Etilhekzanolde (TMDD-A50) ön çözündürülmesi, varilleri ısıtmadan veya mumsu katı tanecik riski olmadan doğrudan soğuk karıştırma tanklarına dozlanabilen kristal berraklığında, oda sıcaklığında pompalanabilir bir sıvı verir!

Etoksillenmemiş Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün saf sudaki maksimum çözünürlüğü nedir ve sıfır VOC'li sistemlerde %0.15'in üzerinde nasıl formüle edilir?
25 °C'de saf suda (hiç eş çözücü veya yüzey aktif madde olmadan), etoksillenmemiş Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün denge çözünürlüğü yaklaşık ağırlıkça %0.11 ila %0.17'dir (1.1 ila 1.7 g/L). Standart su bazlı kaplama ve mürekkeplerde %2–%8 glikol/glikol eter eş çözücülerin ve emülsiyon bağlayıcıların varlığı, ağırlıkça %0.3 ila %0.8 TMDD'yi kolayca çözündürür. %100 eş çözücüsüz su sistemlerinde Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün Etoksillenmiş TMDD ile (4-EO veya 10-EO TMDD gibi, CAS 9014-85-1) karıştırılması, TMDD'yi karışık miseller içinde tamamen çözündürür.

Tetrametildesindiol ürününün %50 Silika Tozu sınıfı (TMDD-50S), kuru karışım fayans yapıştırıcılarını ve kendiliğinden yayılan zemin harçlarını nasıl iyileştirir?
TMDD-50S, çöktürülmüş amorf silika taşıyıcı tozunun mezogözeneklerine emdirilmiş ağırlıkça %50 sıvı Tetrametildesindiol (TMDD) içerir. Şantiyede kuru çimento harcına su eklendiğinde TMDD hemen karıştırma suyuna desorbe olur; toz ıslanmasını hızlandırır ve hapsolmuş hava kabarcıklarını serbest bırakarak kürlenmiş zeminin yüzey iğne deliklerinden tamamen arınmasını ve %10 ila %18 daha yüksek basınç dayanımına ulaşmasını sağlar.

Tetrametildesindiol (TMDD), gıda ambalajı yapıştırıcıları, kâğıt kaplamaları ve kutu lakları için onaylı mıdır?
Evet! Tetrametildesindiol (TMDD) (CAS 126-86-3), ABD Gıda ve İlaç Dairesi tarafından 21 CFR 175.105 (Yapıştırıcılar), 21 CFR 175.300 (Metal gıda kutuları için reçinemsi ve polimerik kaplamalar), 21 CFR 176.170 ve 176.180 (Sulu, yağlı ve kuru gıdalarla temas eden kâğıt ve karton bileşenleri) ve 21 CFR 177.1210 (Sızdırmazlık contalı kapaklar) kapsamında dolaylı gıda temas uygulamaları için izinlidir.

Tetrametildesindiol (TMDD), diğer yüzey aktif maddelerin parçalandığı güçlü asidik (pH 1) ve güçlü alkali (pH 13) ortamlarda neden kararlıdır?
Güçlü asitlerde veya alkali çimento/temizleyici sistemlerinde hızla hidrolize olan ester veya Si-O-C bağları içeren sülfosüksinatların (DOSS), yağ asidi esterlerinin veya organosilikonların aksine Tetrametildesindiol (TMDD), yalnızca pH 1'den pH 14'e kadar hidrolitik parçalanmadan tamamen etkilenmeyen C-C, C(üçlü bağ)C ve tersiyer C-OH bağları içerir.

Tetrametildesindiol (TMDD), ofset baskı nemlendirme çözeltilerinde İzopropanolün (IPA) giderilmesine nasıl yardımcı olur?
Ofset litografide nemlendirme çözeltisi, silindir dönüşünün milisaniyeleri içinde hidrofilik alüminyum baskı plakasını hızla ıslatmalıdır. Geleneksel olarak %10 ila %15 uçucu İzopropanol (IPA) gerekirdi. Nemlendirme suyuna %0.01 ila %0.04 aktif Tetrametildesindiol (TMDD) (etoksillenmiş TMDD ile eşleştirilmiş) eklenmesi, %12 IPA ile aynı milisaniyelik dinamik yüzey gerilimi düşüşünü sağlayarak baskıcıların %100 alkolsüz çalışmasına olanak verir!

Tetrametildesindiol (TMDD) ürününün raf ömrü nedir?
Tetrametildesindiol (TMDD), ortam depolama koşullarında hidrolize olmayan veya kendiliğinden oksitlenmeyen kimyasal olarak kararlı bir tersiyer diol olduğundan, açılmamış orijinal kaplarda 36 ila 60 ay (3 ila 5 yıl) gibi olağanüstü uzun raf ömrüne sahiptir.

TETRAMETİLDESİNDİOL (TMDD) – TEKNİK ÖZET

Tetrametildesindiol (TMDD) (2,4,7,9-Tetrametil-5-desin-4,7-diol, 2,4,7,9-Tetrametildes-5-in-4,7-diol, Tetrametil Desindiol, Surfynol 104 serisi eşdeğeri, CAS 126-86-3, EC 204-809-1, INCI: TETRAMETİL DESİNDİOL, C14H26O2, molekül ağırlığı 226.36 g/mol), noniyonik Gemini asetilenik diol dinamik ıslatıcısı, moleküler köpük kesici ve pigment dispersiyon sinerjisti olarak küresel referanstır. Yatay ara yüzey yönlenmesini, hızlı misel dışı monomer difüzyonunu (milisaniyeler içinde dinamik yüzey gerilimi ~30 ila 34 mN/m), sıfır köpük oluşumunu (0.0 mm Ross-Miles köpük yüksekliği), %100 silikonsuz ve florsuz saflığı ve pH 1–14 hidrolitik kararlılığını birleştiren Tetrametildesindiol (TMDD); Su Bazlı Otomotiv, Endüstriyel, Ahşap ve Kutu Kaplamaları, Fleksografik, Tifdruk ve Dijital Mürekkep Püskürtmeli Mürekkepler, IPA İçermeyen Ofset Nemlendirme Çözeltileri, Basınca Duyarlı ve Gıda Ambalajı Yapıştırıcıları, Kuru Karışım Kendiliğinden Yayılan Yapı Harçları, Lateks Eldiven Daldırma ve Agrokimyasal Formülasyonlarda kraterleri, balıkgözlerini, açılmayı ve mikroköpük iğne deliklerini ortadan kaldırır. Tetrametildesindiol (TMDD) için teknik veri föyleri, %100 Katı, %50–%85 Sıvı (PG, EG, DPM, BC, 2-EH, IPA) veya %50 Silika Tozu sınıflarının numune kitleri ya da dökme varil ve IBC fiyat teklifleri için Ataman Kimya ile iletişime geçin:

Ataman Kimya
Telefon: +90 216 577 10 10
E-posta: info@atamankimya.com